发明名称 自动最佳化写入光学记录媒体的方法以及执行此方法之光学记录/再生装置
摘要 一种最佳化光学记录媒体之纪录条件的方法以及使用该方法之装置。此方法包括纪录测试写入型样(testwrite pattern)于光学记录媒体之多个资料轨上;以及检查自多个资料轨其中一轨再生之射频讯号(radio frequencysignal)的品质以决定最佳之记录条件。于此再生之资料轨中已记录着预设之烧写型样,并且此资料轨系藉由烧写相邻资料轨所产生。
申请公布号 TWI231488 申请公布日期 2005.04.21
申请号 TW092129393 申请日期 2003.10.23
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 黄郁渊;安龙津;大塚达宏;朴仁植
分类号 G11B7/0045;G11B7/125 主分类号 G11B7/0045
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种自动最佳化写入光学记录媒体的方法,包括: 记录一测试烧写型样(test write pattern)于该光学记 录媒体之多数个资料轨(track)中;以及 检查再生自该些资料轨之一的射频讯号之一品质, 此被检查之该些资料轨之一记录该测试烧写型样, 并且该些资料轨之一系藉由烧写于相邻资料轨而 产生以决定一最佳化记录条件。 2.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中该测试烧写型样包含多数 个标记(mark)以及一空间(space)之一组合。 3.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中该测试烧写型样包含长度 T之一第一标记(mark)、长度NT之一第二标记以及一 空间(space),该第二标记之长度大于该第一标记,并 且于形成该第二标记时足使功率达到饱和,其中T 表示一记录/再生时脉之一周期且T为一整数。 4.如申请专利范围第2项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用一 运行长度有限(RLL, run-length-limited)(1,7)码,该测试烧 写型样包含多数个标记以及一空间之一组合。 5.如申请专利范围第2项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用一 运行长度有限(RLL, run-length-limited)(1,7)码,该测试烧 写型样包含一长度2T标记、一长度5T标记以及一空 间。 6.如申请专利范围第2项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用一 运行长度有限(RLL, run-length-limited)(2,6)码,该测试烧 写型样包含多数个标记以及一空间之一组合。 7.如申请专利范围第2项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用一 运行长度有限(RLL, run-length-limited)(2,10)码,该测试 烧写型样包含一长度3T标记、一长度6T标记以及一 空间。 8.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中检查再生自该些资料轨之 一的射频讯号之该品质之步骤更包括运用射频讯 号之强度将用于该测试烧写型样之功率条件最佳 化。 9.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中检查再生自该些资料轨之 一的射频讯号之该品质之步骤更包括运用射频讯 号之强度而最佳化该烧写型样之条件。 10.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中检查再生自该些资料轨之 一的射频讯号之该品质之步骤更包括运用射频讯 号之不对称値(asymmetry value)而最佳化该烧写型样 之条件。 11.如申请专利范围第1项所述之自动最佳化写入光 学记录媒体的方法,其中检查再生自该些资料轨之 一的射频讯号之该品质之步骤更包括运用射频讯 号之抖动値(jitter value)而最佳化该烧写型样之条 件。 12.一种自动最佳化写入光学记录媒体的方法,用于 藉由在一光学记录媒体上测试烧录而决定记录所 需之一最佳功率,该方法包括: 记录一测试烧写型样(test write pattern)于该光学记 录媒体之多数个资料轨(track)中;以及 利用一射频讯号之强度决定该最佳功率,该射频讯 号系从该些资料轨之一再生获得,该些资料轨之一 系藉由烧写于相邻资料轨而产生。 13.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中该测试烧写型样包含长 度不同之多数个标记(mark)以及一空间(space)之一组 合。 14.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中该测试烧写型样包含长 度T之一第一标记(mark)、长度NT之一第二标记以及 一空间(space),该第二标记之长度大于该第一标记, 并且于形成该第二标记时足使功率达到饱和,其中 T表示一记录/再生时脉之一周期且T为一整数。 15.如申请专利范围第13项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用 一运行长度有限(RLL, run-length-limited)(1,7)码,该测试 烧写型样包含不同长度之多数个标记以及一空间 之一组合。 16.如申请专利范围第13项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用 一运行长度有限(RLL, run-length-limited)(1,7)码,该测试 烧写型样包含一长度2T标记、一长度5T标记以及一 空间。 17.如申请专利范围第13项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用 一运行长度有限(RLL, run-length-limited)(2,6)码,该测试 烧写型样包含不同长度之多数个标记以及一空间 之一组合。 18.如申请专利范围第13项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中当该光学记录媒体使用 一运行长度有限(RLL, run-length-limited)(2,10)码,该测 试烧写型样包含一长度3T标记、一长度6T标记以及 一空间。 19.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中该射频讯号之强度系为 了该测试烧写型样之一长度T标记而决定为该射频 讯号之一峰对峰値,于该长度T标记中可使形成标 记之一功率达到饱和。 20.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中利用该射频讯号之强度 决定该最佳功率之步骤包括: 再生该测试烧写型样以输出该射频讯号,该测试烧 写型样系被记录于该些资料轨之一中间轨,该中间 轨系藉由烧写于相邻资料轨而产生;以及 调整一写入功率、一抹除功率以及一偏压功率三 者其中之一之値于一范围并且固定另外二者之値, 当该射频讯号之强度系最大値时即决定一最佳写 入功率、一最佳抹除功率以及一最佳偏压功率。 21.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中记录该测试烧写型样之 步骤包括: 分别设定一写入功率、一抹除功率以及一偏压功 率之标准値以用于纪录该测试烧写型样;以及 纪录该测试烧写型样于该些资料轨。 22.如申请专利范围第21项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中利用该射频讯号之强度 决定该最佳功率之步骤包括: 藉由一射频讯号再生该测试烧写型样于于该些资 料轨之一中间轨,该中间轨系藉由烧写于相邻资料 轨而产生; 检测该射频讯号之一波封(envelope)以检测该射频讯 号之一最大振幅;以及 固定该写入功率以及该偏压功率之値并且调整该 抹除功率于一范围,以决定该射频讯号之强度是否 为该最大振幅値, 其中当该射频讯号之强度非为该最大振幅时,重复 再生该测试烧写型样、检测该射频讯号以及固定 该写入功率等步骤,并且其中当该射频讯号之强度 系为该最大振幅时,决定该抹除功率为一最佳抹除 功率。 23.如申请专利范围第22项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中利用该射频讯号之强度 决定该最佳功率之步骤更包括: 固定该偏压功率以及该最佳抹除功率之値并且调 整该写入功率于一范围,以决定该射频讯号之强度 是否为该最大振幅値, 其中当该射频讯号之强度非为该最大振幅时,重复 再生该测试烧写型样、检测该射频讯号以及固定 该偏压功率以及该最佳抹除功率等步骤,并且其中 当该射频讯号之强度系为该最大振幅时,决定该写 入功率为一最佳写入功率。 24.如申请专利范围第23项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中利用该射频讯号之强度 决定该最佳功率之步骤更包括: 固定该最佳抹除功率以及该最佳写入功率之値并 且调整该偏压功率于一范围,以决定该射频讯号之 强度是否为该最大振幅値, 其中当该射频讯号之强度非为该最大振幅时,重复 再生该测试烧写型样、检测该射频讯号以及固定 该最佳抹除功率以及该最佳写入功率等步骤,并且 其中当该射频讯号之强度系为该最大振幅时,决定 该射频讯号为一最佳射频讯号。 25.如申请专利范围第12项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,更包括: 于决定以及记录该测试烧写型样时,设定该最佳功 率; 再生该测试烧写型样以输出该射频讯号,该测试烧 写型样系被记录于该光学记录媒体;以及 利用该射频讯号之强度以决定该测试烧写型样。 26.如申请专利范围第25项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中决定该测试烧写型样之 步骤中,当该射频讯号之强度系一最大振幅时,指 出一冷却脉冲(cooling pulse)末端的时间周期之一烧 写型样要素即被决定。 27.如申请专利范围第25项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,更包括利用该射频讯号之一 非对称値(asymmetry value)以决定该测试烧写型样。 28.如申请专利范围第27项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中决定该测试烧写型样之 步骤中,当该射频讯号之该非对称値系为最小値时 ,指出一第一脉冲前缘的位移量之一烧写型样要素 即被决定。 29.如申请专利范围第25项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,更包括利用该射频讯号之一 抖动値(jitter value)以决定该测试烧写型样。 30.如申请专利范围第29项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中决定该测试烧写型样之 步骤中,当该射频讯号之该抖动値系为最小値时, 指出一第一脉冲之宽度之一烧写型样要素即被决 定。 31.如申请专利范围第29项所述之自动最佳化写入 光学记录媒体的方法,其中决定该测试烧写型样之 步骤中,当该射频讯号之该抖动値系为最小値时, 指出多脉冲之宽度之一烧写型样要素即被决定。 32.一种藉由完成测试烧录于一光学记录媒体以决 定一烧写型样的方法,包括: 记录一测试烧写型样(test write pattern)于该光学记 录媒体; 再生该测试烧写型样以输出一射频讯号;以及 利用该射频讯号之一强度以决定该烧写型样。 33.如申请专利范围第32项所述之方法,其中该测试 烧写型样包含长度不同之多数个标记(mark)以及一 空间(space)之一组合。 34.如申请专利范围第32项所述之方法,其中该测试 烧写型样包含长度T之一第一标记(mark)、长度NT之 一第二标记以及一空间(space),该第二标记之长度 大于该第一标记,并且于形成该第二标记时足使功 率达到饱和,其中T表示一记录/再生时脉之一周期 且T为一整数。 35.如申请专利范围第33项所述之方法,其中当该光 学记录媒体使用一运行长度有限(RLL,run-length- limited)(1,7)码,该测试烧写型样包含不同长度之多 数个标记以及一空间之一组合。 36.如申请专利范围第33项所述之方法,其中当该光 学记录媒体使用一运行长度有限(RLL,run-length- limited)(1,7)码,该测试烧写型样包含一长度2T标记、 一长度5T标记以及一空间。 37.如申请专利范围第33项所述之方法,其中当该光 学记录媒体使用一运行长度有限(RLL,run-length- limited)(2,6)码,该测试烧写型样包含不同长度之多 数个标记以及一空间之一组合。 38.如申请专利范围第33项所述之方法,其中当该光 学记录媒体使用一运行长度有限(RLL,run-length- limited)(2,10)码,该测试烧写型样包含一长度3T标记 、一长度6T标记以及一空间。 39.如申请专利范围第32项所述之方法,其中决定该 烧写型样中,当该射频讯号之该强度系一最大振幅 时,指出一冷却脉冲(cooling pulse)末端的时间周期之 一烧写型样要素即被决定。 40.如申请专利范围第32项所述之方法,更包括利用 该射频讯号之一非对称値(asymmetry value)以决定该 烧写型样。 41.如申请专利范围第40项所述之方法,其中利用该 非对称値以决定该烧写型样之步骤中,当该射频讯 号之该非对称値系为最小値时,指出一第一脉冲前 缘的一位移量之一烧写型样要素即被决定。 42.如申请专利范围第32项所述之方法,更包括利用 该射频讯号之一抖动値(jitter value)以决定该烧写 型样。 43.如申请专利范围第42项所述之方法,其中利用该 抖动値以决定该烧写型样之步骤中,当该射频讯号 之该抖动値系为最小値时,指出一第一脉冲之宽度 之一烧写型样要素即被决定。 44.如申请专利范围第42项所述之方法,其中利用该 抖动値以决定该烧写型样之步骤中,当该射频讯号 之该抖动値系为最小値时,指出多脉冲之宽度之一 烧写型样要素即被决定。 45.一种藉由完成测试烧录于一光学记录媒体以决 定一烧写型样的方法,包括: 固定一第一烧写型样要素(write pattern element)以及 一第二烧写型样要素并且设定一第三烧写型样要 素以及一第四烧写型样要素以记录一测试烧写型 样(test write pattern),该第一烧写型样要素指出一第 一脉冲之一宽度,该第二烧写型样要素指出多脉冲 之一宽度,该第三烧写型样要素指出该第一脉冲前 缘之一位移量,该第四烧写型样要素指出一冷却脉 冲(cooling pulse)末端的时间周期; 再生该测试烧写型样以输出一射频讯号; 检测该射频讯号之一非对称値(asymmentry); 检测该射频讯号之一波封(envelope);以及 利用该射频讯号之该非对称値而决定该第三烧写 型样要素,利用该射频讯号之该波封而决定该第四 烧写型样要素。 46.如申请专利范围第45项所述之方法,更包括: 检测该射频讯号之一抖动(jitter); 固定该第三烧写型样要素以及该第四烧写型样要 素,重设该第一烧写型样要素以及该第二烧写型样 要素,并且记录该测试烧写型样;以及 利用该射频讯号之该抖动而决定该第一烧写型样 要素以及该第二烧写型样要素。 47.一种光学纪录/再生装置,包括: 一检取暨射频检测器,用以记录一测试烧写型样( test write pattern)于至少一资料轨(track)中,该资料轨 系藉由烧写相邻资料轨所产生; 一第一检测器,用以检测一射频讯号之一强度;以 及 一系统控制器,用以利用该射频讯号之该强度而决 定最佳功率。 48.如申请专利范围第47项所述之光学纪录/再生装 置,其中该测试烧写型样包含长度不同之多数个标 记(mark)以及一空间(space)之一组合。 49.如申请专利范围第47项所述之光学纪录/再生装 置,其中该测试烧写型样包含长度T之一第一标记( mark)、长度NT之一第二标记以及一空间(space),该第 二标记之长度大于该第一标记,并且于形成该第二 标记时足使功率达到饱和,其中T表示一记录/再生 时脉之一周期且T为一整数。 50.如申请专利范围第48项所述之光学纪录/再生装 置,其中当该光学记录媒体使用一运行长度有限( RLL,run-length-limited)(1,7)码,该测试烧写型样包含不 同长度之多数个标记以及一空间之一组合。 51.如申请专利范围第48项所述之光学纪录/再生装 置,其中当该光学记录媒体使用一运行长度有限( RLL,run-length-limited)(1,7)码,该测试烧写型样包含一 长度2T标记、一长度5T标记以及一空间。 52.如申请专利范围第48项所述之光学纪录/再生装 置,其中当该光学记录媒体使用一运行长度有限( RLL,run-length-limited)(2,6)码,该测试烧写型样包含不 同长度之多数个标记以及一空间之一组合。 53.如申请专利范围第48项所述之光学纪录/再生装 置,其中当该光学记录媒体使用一运行长度有限( RLL,run-length-limited)(2,10)码,该测试烧写型样包含一 长度3T标记、一长度6T标记以及一空间。 54.如申请专利范围第47项所述之光学纪录/再生装 置,其中该系统控制器于该测试烧写型样之该射频 讯号具有一最大振幅値时而决定记录所需之一最 佳写入功率、一最佳抹除功率以及一最佳偏压功 率。 55.如申请专利范围第47项所述之光学纪录/再生装 置,更包括: 一第二检测器,用以检测该射频讯号之一非对称値 (asymmetry);以及 一第三检测器,用以检测该射频讯号之一抖动値( jitter value)。 56.如申请专利范围第55项所述之光学纪录/再生装 置,其中该系统控制器利用该测试烧写型样之该射 频讯号之一强度而决定一最佳烧写型样要素,该最 佳烧写型样要素指出一第一脉冲前缘的一位移量 。 57.如申请专利范围第55项所述之光学纪录/再生装 置,其中该系统控制器利用该测试烧写型样之该射 频讯号之该非对称値而决定一最佳烧写型样要素, 该最佳烧写型样要素指出一冷却脉冲(cooling pulse) 末端的时间周期。 58.如申请专利范围第55项所述之光学纪录/再生装 置,其中该系统控制器利用该射频讯号之该抖动値 而决定一第一脉冲的一最佳宽度。 59.如申请专利范围第55项所述之光学纪录/再生装 置,其中该系统控制器利用该射频讯号之该抖动値 而决定多脉冲的一最佳宽度。 60.一种利用快速增长方法(fast growth method)或晶核 生成显性方法(nucleation dominant method)之最佳化写入 光学记录媒体的方法,包括: 记录一测试烧写型样(test write pattern)于该光学记 录媒体之多数个资料轨中;以及 检查一射频讯号之一品质以决定该最佳化写入之 条件,该射频讯号系再生自该些资料轨其中之一, 该些资料轨其中之一系记录有该测试烧写型样且 该些资料轨其中之一系藉由烧写相邻资料轨所产 生。 图式简单说明: 第1图是依照本发明之实施例绘示之一种光学记录 /再生装置的方块图。 第2A图至第2D图是依照本发明之较佳实施例所绘之 图,以说明决定抹除功率之方法。 第3A图至第3C图是依照本发明之较佳实施例所绘之 图,以说明决定写入功率之方法。 第4A图至第4C图是依照本发明之较佳实施例所绘之 图,以说明决定偏压功率之方法。 第5图是绘示说明交互抹除现象导致抖动。 第6A图与第6B图是依照本发明之较佳实施例所绘示 写入条件要素。 第7A图至第7D图是依照本发明之较佳实施例所绘之 图,以说明基于可指出冷却脉冲末端时间周期的烧 写型样要素dT2而决定烧写型样之方法。 第8A图至第8C图是依照本发明之较佳实施例所绘之 图,以说明基于可指出第一脉冲前缘位移量的烧写 型样要素dT1而决定烧写型样之方法。 第9图是依照本发明之较佳实施例所绘示一种于光 学记录媒体上自动最佳化写入(决定功率)方法以 决定功率之流程图。 第10图是依照本发明之较佳实施例所绘示一种于 光学记录媒体上自动最佳化写入(决定功率)方法 以决定烧写型样之流程图。
地址 韩国