发明名称 |
METHOD FOR RADIATION TREATING AN OPTICAL SYSTEM |
摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Behandlung eines optischen Systems mit Strahlung eines vorgeschalteten Beleuchtungssystems. Erfindungsgemäss werden nacheinander verschiedene Teilbeleuchtungsaperturen des Beleuchtungssystems eingestellt, die jeweils nur einen Teilbereich des Gesamtbehandlungsbereichs des optischen Systems strahlungsbehandelnd beleuchten, wobei sich die nacheinander strahlungsbehandelnd beleuchteten Teilbereiche zum Gesamtfeld des optischen Systems ergänzen. Verwendung z.B. zur Photoreinigung von Projektionsobjektiven in Lithographiebelichtungsanlagen.</p> |
申请公布号 |
WO2005036272(A1) |
申请公布日期 |
2005.04.21 |
申请号 |
WO2003EP10362 |
申请日期 |
2003.09.18 |
申请人 |
CARL ZEISS SMT AG;GRUNER, TORALF;DOCHNAHL, AXEL |
发明人 |
GRUNER, TORALF;DOCHNAHL, AXEL |
分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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