声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统

摘要

声光调频一次曝光成像干涉光刻方法及其系统，其特征是使用两个声光调频器，将从激光器发出的波长为λ的激光的频率产生移动，形成一束波长为λ+Δλ的激光，用于在x方向离轴照明光掩模；形成一束波长为λ－Δλ的激光，用于在y方向离轴照明同一光掩模；用波长为λ的激光垂直照明光掩模，由于三束光为不相干涉光，因此三束光各自产生的像在硅片表面非相干叠加，形成最终的掩模像。该方法原理简单，无须用三台波长不同的激光器，或先后分别进行三次曝光，只需同时进行三波长一次曝光就可以完成成像干涉光刻曝光，而且用衰减滤光器可调节垂直照明，x方向倾斜照明和y方向倾斜照明的光强度以改变三束光的曝光量比例以优化像质；同时在参考光R_x、R_y光路中设置滤光片，以调节x方向、y方向曝光时零级光与高频分量的强度比，以利优化像质。

主权项

1.声光调频一次曝光成像干涉光刻方法，其特征在于包括下列步骤：采用声光调频器使从激光器输出的波长为λ的激光，调频为具有波长差为Δλ的两束光λ+Δλ和λ-Δλ，使三束光互不相干，用它们分别垂直照明光掩模、x方向偏置照明光掩模以及y方向偏置照明光掩模，通过成像系统一次完成曝光。