| 发明名称 | 一种磁控溅射靶 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开一种磁控溅射靶。由水冷靶材和可移动的磁体组成平面靶或圆柱靶结构；平面靶结构中磁体通过滚动轴承与水冷背板安装在一起，电机通过传动盘驱动金属板和固定其上的磁体一起运动；圆柱靶结构中磁体套在不锈钢管上安装在圆柱靶内，置于冷却水中，并通过连接机构与电机相连。本实用新型采用了移动磁体技术，通过对普通磁控溅射平面靶和圆柱靶磁体的改进，使其磁体在溅射镀膜过程中能够移动，从而使靶材表面的刻蚀区域更宽，刻蚀更均匀，靶材的利用率有明显的提高，同时保留了磁控溅射工艺的优点，而没有影响其工艺性能；本实用新型还具有结构简单，性能可靠，易操作等特点，可显著提高靶材的利用率，具有广泛的应用领域。 | ||
| 申请公布号 | CN2693788Y | 申请公布日期 | 2005.04.20 |
| 申请号 | CN200320105655.2 | 申请日期 | 2003.11.28 |
| 申请人 | 中国科学院金属研究所 | 发明人 | 宫骏;肖金泉;孙超;华伟刚;刘山川;王启民;王铁钢;裴志亮;闻立时 |
| 分类号 | C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/35 |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 许宗富;周秀梅 |
| 主权项 | 1.一种磁控溅射靶，其特征在于：由水冷靶材和可移动的磁体组成平面靶或圆柱靶结构；所述靶为平面结构时，磁体(5)固定在金属板(9)上，安装在水冷靶材的背后；磁体通过滚动轴承(4)与水冷背板(2)安装在一起，电机(7)通过传动盘(8)驱动金属板(9)和固定其上的磁体(5)一起运动；所述靶为圆柱形结构时，磁体(5)为圆环形结构，磁体(5)套在不锈钢管(10)上安装在圆柱靶内、置于冷却水中。 | ||
| 地址 | 110016辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 | ||