发明名称 图案形成方法及使用该方法制备液晶显示器的方法
摘要 将有机薄膜被覆在绝缘基片上,并使有机溶剂渗透进入该有机薄膜中,引起有机薄膜溶解,以平坦化有机薄膜。之后,在100-180℃的温度下对该平坦化有机薄膜进行热处理,以蒸发包含在有机薄膜中的有机溶剂。在相对低的温度,即100-180℃下蒸发包含在有机薄膜中的有机溶剂,可降低有机薄膜被覆的布线层上的热应力,并提供绝缘基片表面的平坦度。
申请公布号 CN1198171C 申请公布日期 2005.04.20
申请号 CN02141390.8 申请日期 2002.07.09
申请人 NEC液晶技术株式会社 发明人 城户秀作
分类号 G02F1/136;G02F1/1343;H01L21/3105 主分类号 G02F1/136
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 柳春琦
主权项 1.一种平坦化有机薄膜的方法,其特征在于:在绝缘基片的表面涂布有机薄膜之后,在常温下将有机溶剂渗透进入所述的有机薄膜中而引起所述的有机薄膜溶解,以平坦化所述的有机薄膜。
地址 日本神奈川县