| 发明名称 | 抛光液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了被抛光物的表面上不产生表面缺陷、提高抛光速度、且降低表面粗糙度的抛光液组合物和被抛光基板的抛光方法。[1]抛光液组合物，它含有水、磨料、中间氧化铝、碳原子数在4个以上且没有OH基的多元羧酸或其盐，且中间氧化铝的含量相对于100重量份的磨料为1～90重量份；和[2]被抛光基板的抛光方法，它是在抛光时抛光液组合物是前述[1]抛光液组合物的条件下对被抛光基板进行抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN1197930C | 申请公布日期 | 2005.04.20 |
| 申请号 | CN01812907.2 | 申请日期 | 2001.06.05 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 藤井滋夫;大岛良晓;内藤宏一 |
| 分类号 | C09K3/14;B24B37/00 | 主分类号 | C09K3/14 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沙永生 |
| 主权项 | 1.抛光液组合物，它含有水、作为磨料的α-氧化铝、中间氧化铝、碳原子数为4～6个且没有OH基的多元羧酸或其盐，且中间氧化铝的含量相对于100重量份的α-氧化铝为1～90重量份。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||