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发明名称 A METHOD OF PLANARIZING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING A HIGH DENSITY PLASMA SYSTEM
摘要
申请公布号 EP1088339(A4) 申请公布日期 2005.04.20
申请号 EP19990912504 申请日期 1999.03.15
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 ABRAHAM, THOMAS;BONDUR, JAMES, A.;GARCIA, JAMES, P.
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/310 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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