发明名称 | 沉积场致发光器件薄层的掩模框组件及沉积薄层的方法 | ||
摘要 | 本发明披露了一种掩模框组件,其用于沉积有机场致发光器件的薄层。该掩模框组件包括以下几个部分:一主掩模,其形成有与大量单元体相对应的图案;一图标掩模(具有图标图案),其设置在主掩模上并相应于主掩模的一个或多个开口;以及一掩模框,其形成有相应于所述主掩模的开口,并被连接到所述主掩模和图标掩模。 | ||
申请公布号 | CN1607868A | 申请公布日期 | 2005.04.20 |
申请号 | CN200410087462.8 | 申请日期 | 2004.09.30 |
申请人 | 三星OLED株式会社 | 发明人 | 金鲜喜 |
分类号 | H05B33/10 | 主分类号 | H05B33/10 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏;黄力行 |
主权项 | 1、一种用于沉积有机场致发光器件的一个或多个薄层的掩模框组件,包括:一主掩模,其具有相应于大量单元体的图案,在该图案上设置有一开口;一图标图案承载掩模,其具有相应于图标的图案;其中该图标图案承载掩模设置在主掩模上,并与形成在所述主掩模上的开口相对应;以及一掩模框,其形成有与主掩模相对应的开口,并被连接到所述主掩模和所述图标图案承载掩模。 | ||
地址 | 韩国蔚山广域市 |