发明名称 | 使用气泡的基材表面处理方法及设备 | ||
摘要 | 从基材表面移除一物质,例如从晶圆移除光阻剂,或于基材表面形成一反应产物的技术被揭示。将复数片等间隔、平行的基材的底部垂直的浸入于一液体,将一气体例如臭氧导入于该液体中且于该基材的下方连续形成气泡,使得该等气泡在破灭之前于两相邻基材之间不断往上爬昇。在气泡爬升的过程中在基材表面的液体边界层被压缩及更新,促进在该边界层内的气-液-固质传效率,使得其中的反应更快速的被完成,于是基材表面更有效率的被处理。 | ||
申请公布号 | TW200514157 | 申请公布日期 | 2005.04.16 |
申请号 | TW092127715 | 申请日期 | 2003.10.06 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 金光祖;陈秋美;罗正忠;徐静怡;法汉恩夏得曼 |
分类号 | H01L21/306 | 主分类号 | H01L21/306 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |