发明名称 使用气泡的基材表面处理方法及设备
摘要 从基材表面移除一物质,例如从晶圆移除光阻剂,或于基材表面形成一反应产物的技术被揭示。将复数片等间隔、平行的基材的底部垂直的浸入于一液体,将一气体例如臭氧导入于该液体中且于该基材的下方连续形成气泡,使得该等气泡在破灭之前于两相邻基材之间不断往上爬昇。在气泡爬升的过程中在基材表面的液体边界层被压缩及更新,促进在该边界层内的气-液-固质传效率,使得其中的反应更快速的被完成,于是基材表面更有效率的被处理。
申请公布号 TW200514157 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW092127715 申请日期 2003.10.06
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 金光祖;陈秋美;罗正忠;徐静怡;法汉恩夏得曼
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号