发明名称 深沟渠式电容器及其制造方法
摘要 一种深沟渠式电容器之结构,其包括一基底、一第一电容器、一第二电容器以及一绝缘层。其中,基底中具有一深沟渠,且第一电容器系配置在深沟渠中,第一电容器系包括一第一下电极、一第一电容介电层以及一第一上电极。另外,第二电容器也是配置在深沟渠中,且第二电容器系包括一第二下电极、一第二电容介电层以及一第二上电极。绝缘层系配置在第一电容器以及第二电容器之间。而第一下电极与第二下电极于深沟渠之底部处系彼此电性连接,第一上电极与第二上电极于深沟渠之顶部处系彼此电性连接。本发明可以大幅提升电容器之储存电容量。
申请公布号 TW200514193 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW092127386 申请日期 2003.10.03
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 林瑄智;于家生;廖显皜
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号