发明名称 | 深沟渠式电容器及其制造方法 | ||
摘要 | 一种深沟渠式电容器之结构,其包括一基底、一第一电容器、一第二电容器以及一绝缘层。其中,基底中具有一深沟渠,且第一电容器系配置在深沟渠中,第一电容器系包括一第一下电极、一第一电容介电层以及一第一上电极。另外,第二电容器也是配置在深沟渠中,且第二电容器系包括一第二下电极、一第二电容介电层以及一第二上电极。绝缘层系配置在第一电容器以及第二电容器之间。而第一下电极与第二下电极于深沟渠之底部处系彼此电性连接,第一上电极与第二上电极于深沟渠之顶部处系彼此电性连接。本发明可以大幅提升电容器之储存电容量。 | ||
申请公布号 | TW200514193 | 申请公布日期 | 2005.04.16 |
申请号 | TW092127386 | 申请日期 | 2003.10.03 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 林瑄智;于家生;廖显皜 |
分类号 | H01L21/762 | 主分类号 | H01L21/762 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |