发明名称 半导体装置
摘要 本发明系提供一种大电流对应型的低温多晶矽TFT(Thin Film Transistor:薄膜电晶体),可极力抑制大电流驱动时自我加热所引起的特性恶化。本发明的半导体装置系于具有玻璃基板(10)、主动层(12),以及在其上经介闸极绝缘膜(13)所形成的闸极电极(14加TFT中,在通道区域(12c)的下方或整个主动层(12)的下方设置散热用底部金属层BM,而得以将驱动TFT时通道区域(12c)所产生的焦耳热散热到TFT外部为其特征者。再者,本发明的半导体装置之特征系于上述构成外,底部金属层BM为与闸极电极(14)或主动层(12)的源极区域(12s)连接。
申请公布号 TW200514262 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW093126838 申请日期 2004.09.06
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 横山良一;山野耕治;武田安弘;广泽孝司
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本