藉由罩幕传递高能粒子之方法及系统

摘要

一种用来集中高能粒子至目标半导体基材上之预定区域的方法与系统。此系统同时使用产生预定数量高能粒子之一高能量源及产生低能粒子束之一电磁放射源。此系统亦使用具有至少一罩幕之一罩幕组，而罩幕具有至少一校准区域与至少一罩幕目标区域，且罩幕目标区域比罩幕的其他区域有更多的高能粒子通过。此系统更使用至少一保护罩，用来避免上述之校准区域接触高能粒子，并且利用低能粒子束通过校准区域来校准罩幕与预定目标半导体基材，而高能量源产生之高能粒子则会通过罩幕目标区域至目标半导体基材之预定区域上。