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发明名称
制备安定之理想氧沈淀矽晶圆之方法
摘要
本发明系关于一种单晶丘克拉斯基型(Czochralski–type)矽晶圆及其制备方法,其中具有非均匀分布之安定的氧沈淀成核中心。明确而言,尖峰浓度位于晶圆块内且无沈淀物区自表面向内延伸。
申请公布号
TW200513551
申请公布日期
2005.04.16
申请号
TW093120519
申请日期
2004.07.08
申请人
MEMC电子材料公司
发明人
罗伯特J 佛斯特;维拉迪玛V 佛伦可夫
分类号
C30B15/20
主分类号
C30B15/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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