发明名称 制备安定之理想氧沈淀矽晶圆之方法
摘要 本发明系关于一种单晶丘克拉斯基型(Czochralski–type)矽晶圆及其制备方法,其中具有非均匀分布之安定的氧沈淀成核中心。明确而言,尖峰浓度位于晶圆块内且无沈淀物区自表面向内延伸。
申请公布号 TW200513551 申请公布日期 2005.04.16
申请号 TW093120519 申请日期 2004.07.08
申请人 MEMC电子材料公司 发明人 罗伯特J 佛斯特;维拉迪玛V 佛伦可夫
分类号 C30B15/20 主分类号 C30B15/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国