| 摘要 |
本文提出一种用于改良微影系统中关键尺寸(CD)一致性之系统、装置、及方法。该系统包括一经组态以曝光基板之曝光装置、一以运作方式耦合至该曝光装置之轨道装置及复数个处理模组及装置。该系统亦包括一量测设备，该量测设备经组态以量测曝光及处理后基板之属性，并基于预先规定的基板基本资料资讯来评估曝光及处理过的基板属性是否一致。该系统进一步包括一模组，该模组经组态以在判定该等属性不一致时便基于该等量测到的属性来适应性地计算校正性曝光资料。校正性曝光资料经组态以藉由调节曝光装置之曝光剂量来校正基板中之不一致性。一旦该等基板被评估为达到了所要一致性，就根据校正性曝光资料由曝光装置来曝光基板，并继续监视曝光过的基板之一致性且视需要更新剂量校正以保持一致性。 |
