发明名称 PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL MONTAJE DE SUBSTRATOS.
摘要 Procedimiento para el montaje de al menos dos substratos para la formación de un soporte de datos, en una cámara de presión negativa, que presenta al menos un orificio para la entrada y/o salida de substratos, con las siguientes etapas del procedimiento: - cerrar herméticamente el orificio con relación al medio ambiente; - evacuar la cámara de presión negativa; - formar una cámara de transferencia entre un primer dispositivo de transferencia, que está dispuesto en la cámara de presión negativa, y un segundo dispositivo de manipulación, que está dispuesto fuera de la cámara de presión negativa, a través de la obturación respectiva del orificio de la cámara de presión negativa, presentando la cámara de transferencia un volumen menor que la cámara de presión negativa; - transferir los substratos en la cámara de transferencia desde el segundo dispositivo de manipulación hacia el primer dispositivo de manipulación, evacuando la cámara de transferencia antes y/o durante la transferencia del substrato a una presión que está por encima de la presión de la cámara de presión negativa; - transportar los substratos con el primer dispositivo de manipulación hacia una estación de montaje en la cámara de presión negativa, y, en concreto, cuando la cámara de presión negativa está cerrada herméticamente a través del segundo dispositivo de manipulación; - poner el primer dispositivo de manipulación en contacto con la estación de montaje para la formación de una cámara de unión; - evacuar la cámara de unión a una presión, que está por debajo de la presión en la cámara de presión negativa; - unir los substratos juntos en la estación de unión.
申请公布号 ES2228974(T3) 申请公布日期 2005.04.16
申请号 ES20010989593T 申请日期 2001.12.13
申请人 STEAG HAMATECH AG 发明人 SPEER, ULRICH;WAGNER, ROLAND;LEONHARDT, STEPHAN
分类号 B29C65/00;B29C65/48;G11B7/26 主分类号 B29C65/00
代理机构 代理人
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