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经营范围
发明名称
A Method for Manufacturing A Thin Film Transistor Device using poly-Silicon
摘要
申请公布号
KR100482164(B1)
申请公布日期
2005.04.14
申请号
KR20020065556
申请日期
2002.10.25
申请人
发明人
分类号
H01L29/786;(IPC1-7):H01L29/786
主分类号
H01L29/786
代理机构
代理人
主权项
地址
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