| 发明名称 |
Microlithographic projection exposure |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003304487(A8) |
申请公布日期 |
2005.04.14 |
| 申请号 |
AU20030304487 |
申请日期 |
2003.10.29 |
| 申请人 |
CARL ZEISS SMT AG |
发明人 |
MARKUS BROTSACK;AKSEL GOEHNERMEIER;DANIEL KRAEHMER;JOHANNES WANGLER;NILS DIECKMANN;MICHAEL TOTZECK;MARKUS SCHWAB;TORALF GRUNER |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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