| 发明名称 | 排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物，用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂敷面上涂敷正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂敷法，其中含有(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂，所述(D)有机溶剂中含有丙二醇单甲醚乙酸酯。其中，(B)含酚性羟基化合物优选为下式(I)所示的化合物。根据本发明可以提供一种适合用于排出喷嘴式涂敷法的正型光致抗蚀剂组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1605939A | 申请公布日期 | 2005.04.13 |
| 申请号 | CN200410083384.4 | 申请日期 | 2004.10.08 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢 |
| 分类号 | G03F7/023;G03F7/039;G03F7/004 | 主分类号 | G03F7/023 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1、一种排出喷嘴式涂敷法用正型光致抗蚀剂组合物，是用于具有通过使排出喷嘴和基板进行相对移动而在基板的整个涂敷面上涂敷正型光致抗蚀剂组合物的工序的排出喷嘴式涂敷法的正型光致抗蚀剂组合物，其中含有(A)碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二迭氮基化合物、以及(D)有机溶剂，所述(D)有机溶剂中含有丙二醇单甲醚乙酸酯。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||