用于等离子体溅射的与旋转磁控管结合的磁体阵列

摘要

辅助磁体的阵列(60)沿磁控溅射反应器的侧壁(14)一边设置，该边从靶(16)的一边对着晶片。该磁控管优选为一个小而强的磁控管，其具有第一磁极性的强度较高的外磁体(42)，外磁体围绕具有第二磁极性的强度较弱的磁体，且该磁控管绕室中心轴(38)旋转。该辅助磁体优选具有第一磁极性以吸引不平衡的磁场分量投向晶片。该辅助磁体可为永磁体(62)或电磁体(90)。

主权项

1.一种等离子体溅射反应器，其包括：真空室，其侧壁绕中心轴设置；基座，其用于在所述真空室中支撑基片；溅射靶，其沿着所述中心轴，面对所述基座设置，加工空间在所述基座，所述靶和所述侧壁之间的区域形成；磁控管，其设置在所述靶一侧，面对所述加工空间；以及辅助磁体，其沿着所述中心轴，至少部分地绕所述加工空间设置，并具有第一磁极性。