发明名称 用于电致发光显示器的低焙烧温度的厚膜介电层
摘要 本发明涉及一种用于电致发光显示器的低焙烧温度的复合厚膜介电层。该复合厚膜介电层包括:(a)厚膜组合物的下部区域层,它包括:铌镁酸铅(PMN)、铌镁酸铅-钛酸铅(PMN-PT)、钛酸铅、钛酸钡和氧化铅中的一种或多种;含有氧化铅、氧化硼以及二氧化硅的玻璃粉组合物;(b)上部区域,它包括锆钛酸铅(PZT)和/或钛酸钡的至少一层,以及(c)含有(a)和(b)复合层的中间复合区域。
申请公布号 CN1606897A 申请公布日期 2005.04.13
申请号 CN02825726.X 申请日期 2002.12.16
申请人 伊菲雷技术有限公司 发明人 李武;吴承熙;杨迈之;吴兴炜;李成义;丹尼尔·J·西尔;威廉·M·斯迈;叶羽丰;张辉
分类号 H05B33/10;H05B33/14;C03C8/16 主分类号 H05B33/10
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 郭国清;樊卫民
主权项 1.一种复合厚膜介电层,它包括:(a)厚膜组合物的下部区域层,它包括:铌镁酸铅(PMN)、铌镁酸铅-钛酸铅(PMN-PT)、钛酸铅、钛酸钡和氧化铅中的一种或多种;含有氧化铅、氧化硼以及二氧化硅的玻璃粉组合物;以及(b)上部区域,它包括锆钛酸铅(PZT)和/或钛酸钡的至少一层,(c)含有(a)和(b)的复合层的中间复合区域。
地址 加拿大艾伯塔省