| 发明名称 | 维持微影制程容许度的方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭露一种维持微影制程容许度的方法。首先，提供一基底；接着，形成一抗反射层于上述基底表面；然后，形成一透明保护层于上述抗反射层表面；接着，形成一图案化光阻于上述透明保护层表面；最后，以上述图案化光阻为罩幕，依序蚀刻上述透明保护层、上述抗反射层与上述基底。 | ||
| 申请公布号 | CN1605937A | 申请公布日期 | 2005.04.13 |
| 申请号 | CN200310100087.1 | 申请日期 | 2003.10.08 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 陈良信;吴国坚;陈逸男;谢文贵 |
| 分类号 | G03F7/00;G03F1/14;G03F7/26;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
| 主权项 | 1.一种维持微影制程容许度(process window)的方法，包括：提供一基底；形成一抗反射层于上述基底表面；形成一透明保护层于上述抗反射层表面；形成一图案化光阻于上述透明保护层表面；以及以上述图案化光阻为罩幕，依序蚀刻上述透明保护层、上述抗反射层与上述基底。 | ||
| 地址 | 台湾省桃园县 | ||