发明名称 一种可校正制造工艺偏差的对准标记及其对准方法
摘要 本发明公开了一种可校正制造工艺偏差的对准标记及其对准方法,该方法应用至少两个具有宽度逐渐缩减至零的两端点的沟槽作为对准标记。利用沟槽宽度为零时由位于沟槽上的具有不对称轮廓的薄膜所造成的偏移误差也随之为零的特点,来再现前一层的对准目标的位置。
申请公布号 CN1606124A 申请公布日期 2005.04.13
申请号 CN200310100722.6 申请日期 2003.10.08
申请人 茂德科技股份有限公司 发明人 简荣吾
分类号 H01L21/00;H01L21/027 主分类号 H01L21/00
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 马高平;杨梧
主权项 1.一种可校正制造工艺偏差的对准标记的对准方法,该对准方法包括:在一晶圆的一标记区域上形成至少三个第一沟槽,所述第一沟槽的形状为一长条形,且这些第一沟槽围成具有第一中心点的第一多边形,其中所述长条形具有宽度逐渐缩减至零的两末端,且连结所述两末端的直线与所述长条形的两边互相平行;在所述晶圆上沉积一薄膜,且该薄膜在所述第一沟槽中分别形成第二沟槽;将所述第二沟槽的两末端以直线连接起来,构成具有第二中心点的第二多边形;以及以该第二中心点为一对准目标,对所述薄膜进行光刻工序。
地址 台湾省新竹科学工业园