发明名称 | 在开式MR装置中的噪声抑制 | ||
摘要 | 本发明涉及一种MR装置(1),其具有开式检查容积(6),以便于检查容积(6)从侧面也可接近;具有主线圈设备(2),用于产生被放置在检查容积(6)的两个相对侧上面的主磁场;具有用于激励质子进动的至少一个高频线圈设备(5);以及具有被放置在检查容积(6)相对侧上面的至少一个两段梯度线圈,用于质子进动激励的位置编码。动态洛伦兹力至今已经导致高的振荡水平。本发明的目的是提供一种仅具有低振荡水平的MR装置(1)。本发明建议,在检查容积(6)的至少一侧上,凹进部分(7)从所述检查容积(6)延伸并且通过主线圈设备(2),在所述凹进部分(7)中支撑元件(9)被放置,梯度线圈设备(4)被排他地附着到所述支撑元件(9)面对检查容积(6)的那侧。 | ||
申请公布号 | CN1606699A | 申请公布日期 | 2005.04.13 |
申请号 | CN02825832.0 | 申请日期 | 2002.12.19 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·R·哈维;J·A·奥弗维格;A·H·范奥门 |
分类号 | G01R33/38;G01R33/385 | 主分类号 | G01R33/38 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;张志醒 |
主权项 | 1.一种MR装置(1),具有开式检查容积(6),以便于检查容积(6)从侧面也可进入;具有主线圈设备(2),用于产生被放置在检查容积(6)的两个相对侧上面的主磁场;具有用于激励质子进动的至少一个高频线圈设备(5);以及具有被放置在检查容积(6)相对侧上面的至少一个两段梯度线圈设备(4),用于质子进动激励的位置编码,其特征在于中央凹进部分(7)在检查容积(6)至少一侧上通过主线圈设备(2)从检查容积(6)延伸,并且在所述凹进部分(7)中支撑元件(9)被放置,梯度线圈设备(4)被排他地附着到所述支撑元件(9)面对检查容积(6)的那侧。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |