木器抛光设备改良

摘要

本创作系关于一种木器抛光设备改良，系由底座、定位装置、滑座、驱动装置与带式抛光组所组成，主要在底座组设有马达带动的承载盘，而在底座的承载盘旁装设有定位装置，让定位装置推抵木器而正确定位在承载盘上，且该承载盘上设有具吸、排气的气孔，利用气孔吸附木器，使得木器稳固的与承载盘一同旋转，该底座上设有导轨，让该滑座藉由驱动装置可滑动于该底座导轨上，而该带式抛光组系装设在滑座上；藉此，本创作得以同时抛光木器的顶端以及周侧处，且适用于锥体状的木器抛光加工，所以本创作具有较高适用性，并得以避免以往需各别抛光作业的缺陷。

主权项

1.一种木器抛光设备改良,包括:一底座,其设有工作台,该工作台组设有马达,该马达带动承载盘于工作台上,且该承载盘上设有气孔用以吸附木器,并于底座上设有导轨;二滑座,系滑设于该底座导轨上;二驱动装置,系装设于该底座旁,该驱动装置系控制该滑座滑动于该底座导轨;二带式抛光组,系组设于该滑座上,其中一带式抛光组系对应于该底座承载盘所吸附之木器顶面,而另一带式抛光组则系对应于该底座承载盘所吸附之木器周缘。2.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中在该底座之承载盘旁装设有定位装置,以该定位装置令木器定位于该承载盘上。3.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中在该底座之承载盘旁装设有感测元件,以该感测元件侦测该承载盘转数。4.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中在该底座之导轨旁装设有感测元件,以该感测元件侦测该滑座的位移。5.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中在该底座之承载盘旁装设有排尘管,以该排尘管吸取加工过后的杂屑。6.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中该带式抛光组系由调整座上组设有马达与转轴,令该马达带动皮带使转轴转动,并同时带动转轴上的砂带。7.如申请专利范围第1项所述之木器抛光设备改良,其中该驱动装置系为油压缸而控制滑座滑动于该底座导轨。图式简单说明:第一图 系本创作前视图。第二图 系本创作之定位装置动作前示意图。第三图 系本创作之定位装置动作后示意图。第四图 系本创作之定位装置回复原位置,且该带式抛光组靠近承载旁之示意图。第五图 系本创作滑座滑动于底座导轨上之动作示意图。第六图 系本创作之带式抛光组进行抛光作业于木器之局部示意图。