| 主权项 |
1.一种用于移除于基材上形成之电浆蚀刻残留物之清洁组合物,其包含:(a)水;(b)至少一羟基铵化合物以0.01wt%至30wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计;(c)至少一硷性化合物以0.01wt%至3wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计;及(d)至少一有机羧酸以0.01wt%至10wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计。2.如申请专利范围第1项之组合物,其中该羟基铵化合物系选自羟基铵硫酸盐、羟基铵硝酸盐、羟基铵磷酸盐、羟基铵氯化物、羟基铵氟化物、羟基铵草酸盐、羟基铵柠檬酸盐、羟基铵乳酸盐及其等之混合物。3.如申请专利范围第1项之组合物,其中该硷性化合物系选自胺及四级氢氧化铵。4.如申请专利范围第3项之组合物,其中该硷性化合物系四级氢氧化铵,其系选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵及其等之混合物。5.如申请专利范围第1项之组合物,其中该有机羧酸系选自乳酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、甲酸、草酸、乙酸、丙酸、戊酸、异戊酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、马来酸、福马酸、酸、1,2,3-苯三羧酸、二醇酸、水杨酸、酒石酸、葡萄糖酸及其等之混合物。6.如申请专利范围第1项之组合物,其进一步包含多羟基化合物。7.如申请专利范围第6项之组合物,其中该多羟基化合物系选自乙二醇、丙二醇、甘油及其等之混合物。8.如申请专利范围第1项之组合物,其中该组合物具有2至6之pH値。9.如申请专利范围第8项之组合物,其中该组合物具有3至4.5之pH値。10.如申请专利范围第1项之组合物,其中该组合物包含:(a)水;(b)0.2wt%至20wt%之羟基铵硫酸盐;(c)0.01wt%至0.1wt%之四甲基氢氧化铵;及(d)0.1wt%至3wt%之柠檬酸。11.一种自基材清除残留物之方法,其包含施用一种清洁组合物至该基材之步骤,其中该组合物包含:(a)水;(b)至少一羟基铵化合物以0.01wt%至30wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计;(c)至少一硷性化合物以0.01wt%至3wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计;及(d)至少一有机羧酸以0.01wt%至10wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计。12.如申请专利范围第11项之方法,其中该硷性化合物系选自胺及四级氢氧化铵。13.如申请专利范围第11项之方法,其中该清洁组合物进一步包含多羟基化合物。14.如申请专利范围第11项之方法,其中该清洁组合物具有2至6之pH値。15.如申请专利范围第11项之方法,其中该基材系金属基材。16.一种用于移除于基材上形成之电浆蚀刻残留物之清洁组合物,其包含:(a)水;(b)至少一羟基铵化合物;(c)至少一硷性化合物;及(d)至少一有机羧酸以0.01wt%至10wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计,其中该组合物具有一2至6之pH値。17.如申请专利范围第16项之组合物,其中该羟基铵化合物系选自羟基铵硫酸盐、羟基铵硝酸盐、羟基铵磷酸盐、羟基铵氯化物、羟基铵氟化物、羟基铵草酸盐、羟基铵柠檬酸盐、羟基铵乳酸盐及其等之混合物。18.如申请专利范围第16项之组合物,其中该羟基铵化合物系以0.01wt%至30wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计。19.如申请专利范围第16项之组合物,其中该硷性化合物系选自胺及四级氢氧化铵。20.如申请专利范围第19项之组合物,其中该硷性化合物系四级氢氧化铵,其系选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵及其等之混合物。21.如申请专利范围第16项之组合物,其中该硷性化合物系以0.01wt%至3wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计。22.如申请专利范围第16项之组合物,其中该有机羧酸系选自乳酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、甲酸、草酸、乙酸、丙酸、戊酸、异戊酸、丙二峻、丁二酸、戊二酸、马来酸、福马酸、酸、1,2,3-苯三羧酸、二醇酸、水杨酸、酒石酸、葡萄糖酸及其等之混合物。23.如申请专利范围第16项之组合物,其进一步包含多羟基化合物。24.如申请专利范围第23项之组合物,其中该多羟基化合物系选自乙二醇、丙二醇、甘油及其等之混合物。25.如申请专利范围第16项之组合物,其中该组合物具有3至4.5之pH値。26.一种自基材清除残留物之方法,其包含施用一种清洁组合物至该基材之步骤,其中该组合物包含:(a)水;(b)至少一羟基铵化合物;(c)至少一硷性化合物;及(d)至少一有机羧酸以0.01wt%至10wt%间之量存在,其系以该组合物之总重量为基准计,其中该组合物具有一2至6之pH値。27.如申请专利范围第26项之方法,其中该硷性化合物系选自胺及四级氢氧化铵。28.如申请专利范围第26项之方法,其中该清洁组合物进一步包含多羟基化合物。29.如申请专利范围第26项之方法,其中该清洁组合物具有一3至4.5之pH値。30.如申请专利范围第26项之方法,其中该基材系金属基材。 |
