| 主权项 |
1.一种辐射敏感化学性增强光阻组成物,其包含:一化学性增强光阻聚合物树脂;一光酸产生物;一溶剂,以及一杂环添加物,其选自由下列化合物所组成的群组中:1-苯基-2-啶烷酮及式(I)、(II)、(III)和(IV)之化合物其中R1为-H、-NH2-、-OH、-N(CH3)2 、-NH-CO-CH3,或其中R2为-CH3或苯甲醯基;其中R3为-H或C1-C4烷基;W、X、Y及Z为个别单独选自-CH2-、 、-CH(CH3)-、-CH(CH3)2 -、-NH-或-N(CH3)-,但条件为W、X、Y或Z至少一个是 ,以及W、X、Y或Z至少一个为-NH-或-N(CH3)-;其中A为-CH=或 ;R4为-H、-CH3或-CH2-CH(CH3)2;R5为-H、-CH3或-CH2-CH(OH)-CH2(OH)-;R6为-H;B和D为相同的且选自 或 ;以及当A为-CH=时,p和q之一为0,另一个为1;以及当A为 时,p和q皆为1;以及其等的混合物,其中该添加物在每100重量份之该光酸产生物,有0.01到20重量份。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该添加物选择自由下列所组成的群组中:3.如申请专利范围第1项之组成物,其中该添加物选择自由下列所组成的群组中:4.如申请专利范围第1项之组成物,其中该聚合物包含环己基乙基缩醛嵌段聚羟苯乙烯。5.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生物选自由下列所组成的群组中:盐、化合物、磺酸盐化合物、磺醯氧亚胺化合物、重氮甲烷化合物、二化物以及其等的混合物。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生物为一种三芳基磺酸盐。7.如申请专利范围第1项之组成物,其中该光酸产生物在每100份重量之该聚合物,有0.5份到10份重量。8.如申请专利范围第1项之组成物,其中该溶剂系选自于由下列所构成的群组中:2-甲氧基-1-丙烯醋酸盐、-丁内酯、二甘醇二甲醚、四氢喃、丙烯二醇单甲基醚醋酸盐、丙烯二醇单甲基醚、甲乙酮、甲基异丁基酮、2-庚酮、环戊酮、环己酮、2-甲氧乙醇、2-乙氧基乙醇、2-乙氧乙基醋酸盐、1-甲氧基-2-丙基醋酸盐、1,2-二甲氧乙烷乙基醋酸盐、甲基纤维素醋酸盐、丙烯二醇单乙基醚醋酸盐、甲基乳酸盐、乙基乳酸盐、甲基丙酮酸盐、乙基丙酮酸盐、甲基3-甲氧基丙酸盐、乙基3-甲氧基丙酸盐、1,4-二氧六环、乙烯二醇单异丙基醚、二乙烯二醇单乙基醚、二乙烯二醇单甲基醚、二乙烯二醇二甲基醚及其等之混合物。9.如申请专利范围第8项之组成物,其中该溶剂为丙烯二醇单甲基醚醋酸盐。10.如申请专利范围第1项之组成物,其中该溶剂在辐射敏感组成物中每100份重量之聚合物,有100到1000份重量。11.如申请专利范围第1项之组成物,其更包含一硷性化合物。12.如申请专利范围第11项之组成物,其中该硷性化合物系选自于由下列所构成之群组中:1,5-重氮双环[4,3,0]酮-5-烯、1,8-重氮双环[5,4,0]十一碳-7-烯、2,4,5-三苯基咪唑、三甲基丙烷三(2-甲基-杂氮丙啶丙酸盐)、1-环己基-3-(2-吗乙基)-2-硫代尿素、2,8-二甲基-6H,12H-5,11-甲撑二苯并[b,f][1,5]二氮芳辛、1-胺基-4-对二氮己环、4-(3-胺基丙基)吗、2-(胺基苯基)-6-甲基苯并唑、三苯甲基胺、1,1,4,7,10,10-六甲基三乙烯四胺、硫代吗、1,3-双(3-啶基甲基)-2-硫代尿素、4,4"-四亚甲基双氮杂环己烷、苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、o-甲苯胺、m-甲苯胺、p-甲苯胺、2,4-二甲基啶、、异、甲醯胺、N-甲基-甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、乙醯胺、N-甲基-乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、2-咯烷酮、N-甲基咯烷酮咪唑、-甲基啶、-甲基啶、-甲基啶、1,2-次苯基二胺、1,3-次苯基二胺、1,4-次苯基二胺、2-胺基-4-硝基酚,和诸如2-(p-氯苯基)-4,6-三氯甲基-s-三、1,3,5-三苯甲基六氢-1,3,5-三之三,以及其等的混合物。13.如申请专利范围第11项之组成物,其中该组成物的硷性化合物对添加物之比率为95:5到30:70。14.如申请专利范围第11项之组成物,其中该硷性化合物及该添加物,在每100份重量之光酸产生物,有1到20份重量。15.如申请专利范围第11项之组成物,其中该硷性化合物为1,5-重氮双环[4,3,0]酮-5-烯及该添加物为安替比林,其中该组成物之硷性化合物对添加物之比率为70:30。16.如申请专利范围第1项之组成物,更包含一溶解抑制剂。17.如申请专利范围第1项之组成物,更包含:至少一选自于由下列所构成的群组中之成份:表面活性剂、黏着促进剂、匀染剂、染料及此等之混合物。18.一种用于形成一起伏图像的方法,其包含的步骤有:a)涂覆在一基质上,如申请专利范围第2项之组成物,形成一涂覆基质;b)烘焙该涂覆基质;c)影像化曝露该涂覆基质于光化辐射;d)在提升的温度下,对该涂覆材质进行曝露后烘焙;e)以一水性显色剂显影该涂覆基质,形成一影像涂覆基质;f)清洗该影像涂覆基质;以及g)乾燥该经清洗之基质。19.如申请专利范围第18项之方法,其中该辐射敏感组成物更包含一硷性化合物。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该硷性化合物选自于由下列所构成的群组中:1,5-重氮双环[4,3,0]酮-5-烯、1,8-重氮双环[5,4,0]十一碳-7-烯、2,4,5-三苯基咪唑、三甲基丙烷三(2-甲基杂氮丙啶丙酸盐)、1-环己基-3-(2-吗乙基)-2-硫代尿素、2,8-二甲基-6H,12H-5,11-甲撑二苯并[b,f][1,5]二氮芳辛、1-胺基-4-对二氮己环、4-(3-胺基丙基)吗、2-(胺基苯基)-6-甲基苯并唑、三苯甲基胺、1,1,4,7,10,10-六甲基三乙烯四胺、硫代吗、1,3-双(3-啶基甲基)-2-硫代尿素、4,4"-四亚甲基双氮杂环己烷、苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、o-甲苯胺、m-甲苯胺、p-甲苯胺、2,4-二甲基啶、、异、甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、乙醯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、2-咯烷酮、N-甲基咯烷酮咪唑、-甲基啶、-甲基啶、-甲基啶、1,2-次苯基二胺、1,3-次苯基二胺、1,4-次苯基二胺、2-胺基-4-硝基酚,和诸如2-(p-氯苯基)-4,6-三氯甲基-s-三、1,3,5-三苯甲基六氢-1,3,5-三之三,以及其等的混合物。 |
