发明名称 |
Een masker voor inspectie van een belichtingsinrichting, een werkwijze voor inspectie van een belichtingsinrichting, en een belichtingsinrichting. |
摘要 |
To inspect the polarization state of light flux for exposure of an exposure apparatus, a mask for inspection is held at the photomask position. This mask for inspection comprises a polarizing element which is disposed in a light path of light flux forming an image of a light source and which can selectively transmit light flux with a plurality of polarization directions. |
申请公布号 |
NL1027187(A1) |
申请公布日期 |
2005.04.08 |
申请号 |
NL20041027187 |
申请日期 |
2004.10.06 |
申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
KAZUYA FUKUHARA |
分类号 |
C01B33/18;C01F7/02;C08K7/18;C08L101/00;C09K5/08;G03B27/42;G03F1/00;G03F1/68;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
主分类号 |
C01B33/18 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|