发明名称 Een masker voor inspectie van een belichtingsinrichting, een werkwijze voor inspectie van een belichtingsinrichting, en een belichtingsinrichting.
摘要 To inspect the polarization state of light flux for exposure of an exposure apparatus, a mask for inspection is held at the photomask position. This mask for inspection comprises a polarizing element which is disposed in a light path of light flux forming an image of a light source and which can selectively transmit light flux with a plurality of polarization directions.
申请公布号 NL1027187(A1) 申请公布日期 2005.04.08
申请号 NL20041027187 申请日期 2004.10.06
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 KAZUYA FUKUHARA
分类号 C01B33/18;C01F7/02;C08K7/18;C08L101/00;C09K5/08;G03B27/42;G03F1/00;G03F1/68;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 C01B33/18
代理机构 代理人
主权项
地址