发明名称 | 反应等离子喷涂反应室装置 | ||
摘要 | 本发明涉及一种反应等离子喷涂反应室装置,其结构包括等离子喷枪与反应室构成;反应室与等离子喷枪通过螺纹连接在一起;反应室由内套、外套、进水管、出水管、进气管和送粉孔构成;内套和外套管焊接在一起构成反应室的主体结构,内套和外套管间的空间及进水管和出水管组成反应室的冷却部分,出水管和进水管焊在反应室的外套上,靠冷却水的快速流动带走一定的热量,冷却反应室。进气管连接反应室的内套,与反应室的内套和外套焊接在一起。本装置解决了普通等离子喷涂难以制备高熔点的陶瓷涂层的难题,主要用于使用低功率等离子喷涂设备,采用微米级金属粉末制备高熔点的纳米晶陶瓷涂层和粉末的工艺。 | ||
申请公布号 | CN1603451A | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
申请号 | CN200410072552.X | 申请日期 | 2004.10.28 |
申请人 | 河北工业大学 | 发明人 | 阎殿然;何继宁;董艳春;李香芝;张建新 |
分类号 | C23C4/12;C23C4/18 | 主分类号 | C23C4/12 |
代理机构 | 天津市学苑有限责任专利代理事务所 | 代理人 | 赵尊生 |
主权项 | 1、一种反应等离子喷涂反应室装置,其特征在于:它包括等离子喷枪与反应室构成;反应室由反应室冷却结构、反应室送气结构和反应室送粉结构组成,反应室与等离子喷枪连接在一起。 | ||
地址 | 300130天津市红桥区丁字沽光荣道8号 |