| 发明名称 | 处理沉积在电解槽底部固体的装置 | ||
| 摘要 | 一种用于处理沉积在电解槽底部的固体的装置。所述的装置包括一收集部件(11)，其可沿着电解槽(1)的底部(5)或至少在其附近移动，所述的收集部件(11)包括将粗粒与固体的其余部分分离的机构(12，14)。 | ||
| 申请公布号 | CN1195903C | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
| 申请号 | CN00809041.6 | 申请日期 | 2000.05.30 |
| 申请人 | 奥托库姆普联合股份公司 | 发明人 | 托莫·基维斯特;劳里·帕尔姆;拉伊莫·塞弗洛玛;贾里·斯腾路斯 |
| 分类号 | C25C7/00;C25C7/06 | 主分类号 | C25C7/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 黄必青 |
| 主权项 | 1.一种用于处理沉积在电解槽底部的固体的装置，其特征在于：所述的装置包括一收集部件(11)，其沿着电解槽(1)的底部(5)或至少在其附近可移动，所述的收集部件(11)包括将粗粒与固体的其余部分分离的筛网元件(12，14)。 | ||
| 地址 | 芬兰埃斯波 | ||