发明名称 |
集成电路的斜主动区域半导体组件结构 |
摘要 |
本发明的半导体组件结构特征在于包含:闸氧化层,位于底材之上;闸极位于上述闸氧化层之上;斜主动区域(titled active area),位于该底材的中,该闸极的两侧;接触窗(contact window),配置于相对应之上述斜主动区域(titled activearea)之上;氧化线性间隙壁(oxide line spacer;OLS),配置于对应的该接触窗(contact window)之侧,以加宽接触区域用做为存储单元(cell)或储存电极(storage node)接触结构。 |
申请公布号 |
CN1604333A |
申请公布日期 |
2005.04.06 |
申请号 |
CN03143423.1 |
申请日期 |
2003.09.30 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
三重野文健 |
分类号 |
H01L27/108 |
主分类号 |
H01L27/108 |
代理机构 |
上海隆天新高专利商标代理有限公司 |
代理人 |
谢晋光 |
主权项 |
1.一种半导体组件结构,其特征在于包含:闸氧化层,位于底材之上;闸极位于上述闸氧化层之上;斜主动区域,位于该底材之中的该闸极两侧;接触窗,配置于相对应之上述斜主动区域之上;氧化线性间隙壁,配置于对应该接触窗之侧,以加宽接触区域用做为存储单元接触结构。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号 |