发明名称 |
等离子体脉冲注入的装置 |
摘要 |
等离子体脉冲注入的装置,它涉及的是等离子体注入的装置。等离子体发生器(7)设置在真空室(1)的壁上;转动屏蔽片(2)上开有通孔或缺口,转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)下端中部与(1)下底端上的轴孔(1-1)转动连接,(2-1)下端与电动机(6)的转轴输出端相连接,(2-1)的一侧设置有屏蔽筒(3),(3)的上端口与(2)的下端面之间有气隙(δ),(3)的下端口连接在(1)的下底上,(3)的内部设置有靶台(4),电极(4-1)的中部通过绝缘套(4-2)与孔(1-2)相套接,(4-1)的底端与直流负偏压电源(5)的电源输出端相连接,工件(7)设置在靶台(4)的上端面上。本发明能把等离子体以脉冲形式注入到材料表面,并对脉冲的占空比、脉宽、频率进行调节,其设备制造成本低、结构简单、易维护。 |
申请公布号 |
CN1604266A |
申请公布日期 |
2005.04.06 |
申请号 |
CN200410044045.5 |
申请日期 |
2004.11.12 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
田修波;黄永宪;杨士勤 |
分类号 |
H01J37/317;H01L21/265;H01L21/3065;H05H1/00 |
主分类号 |
H01J37/317 |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 |
代理人 |
王吉东 |
主权项 |
1.等离子体脉冲注入的装置,它由真空室(1)、转动屏蔽片(2)、屏蔽筒(3)、靶台(4)、直流负偏压电源(5)、电动机(6)、等离子体发生器(7)组成;等离子体发生器(7)设置在真空室(1)的壁上;其特征在于转动屏蔽片(2)上开有通孔或缺口,转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)下端中部与真空室(1)下底端上的轴孔(1-1)转动连接,转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)下端与电动机(6)的转轴输出端相连接,转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)的一侧设置有屏蔽筒(3),屏蔽筒(3)的上端口与转动屏蔽片(2)的下端面之间有气隙(δ),屏蔽筒(3)的下端口连接在真空室(1)的下底上,屏蔽筒(3)的内部设置有靶台(4),靶台(4)的下端电极(4-1)的中部通过绝缘套(4-2)与真空室(1)底端上的孔(1-2)相套接,靶台(4)的下端电极(4-1)的底端与直流负偏压电源(5)的电源输出端相连接。 |
地址 |
150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |