发明名称 立方MgZnO晶体薄膜光波导器件及制备工艺
摘要 一种MgZnO晶体薄膜光波导器件,由衬底、下包层、芯层和上包层构成,衬底采用玻璃或SiO<SUB>2</SUB>/Si,芯层为立方Mg<SUB>x</SUB>Zn<SUB>1-x</SUB>O(x>0.5)晶体薄膜,折射率可随薄膜中Mg组分的改变实现连续可调,上、下包层可以是Mg组分比芯层高的Mg<SUB>y</SUB>Zn<SUB>1-y</SUB>O(y>0.5)薄膜,也可以是SiO<SUB>2</SUB>薄膜,上包层也可以是空气。光波导器件是在衬底上低温物理外延生长立方Mg<SUB>x</SUB>Zn<SUB>1-x</SUB>O芯层和包层,并通过湿法或干法刻蚀后得到的。本发明具有制备工艺简单,成本低,波导层光学模的损耗和双折射效应小,波导层折射率连续可调等优点。
申请公布号 CN1603870A 申请公布日期 2005.04.06
申请号 CN200410067858.6 申请日期 2004.11.02
申请人 浙江大学 发明人 吴惠桢;陈乃波;徐天宁;余萍;邱东江
分类号 G02B6/13;G02B6/136;G03F7/20;G02F1/035;G02F1/03 主分类号 G02B6/13
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 张法高;盛辉地
主权项 1、一种立方MgZnO晶体薄膜光波导器件,其特征是:所述光波导器件由衬底、下包层、芯层和上包层构成,衬底采用玻璃或SiO2/Si,光波导的芯层为低温物理外延生长的立方MgxZn1-xO(x>0.5)晶体薄膜,折射率可随薄膜中Mg组分的改变实现连续可调,上、下包层可以是Mg组分比芯层高的MgyZn1-yO(y>0.5)薄膜,也可以是SiO2薄膜,上包层还可以是空气。
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