发明名称 | 磁控溅射装置 | ||
摘要 | 提供一种结构简单,具有使用效率高的靶的磁控溅射装置。由以下部分构成:真空腔(2);阴极(4),位于所述真空腔(2)内部,保持靶(3);阳极(6),位于阴极(4)的上方,保持与阴极(4)的靶(3)侧相对的基板(5);永久磁铁(7),位于阴极(4)的下方,用于产生磁场;和旋转控制装置(12),以靶(3)的中心为轴,使所述永久磁铁(7)旋转,永久磁铁(7)由以下部分构成:底部(8),用于固定磁铁;永久磁铁(9),固定于底部(8)的部位;和永久磁铁(10),固定于底部(8)的端部,环绕永久磁铁(9),磁极的极性与永久磁铁(9)相反并且磁场强度比永久磁铁(9)弱,此外,永久磁铁(7)的上部为将圆筒斜向切断的形状。 | ||
申请公布号 | CN1603456A | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
申请号 | CN200410005459.7 | 申请日期 | 2004.02.19 |
申请人 | 日本胜利株式会社 | 发明人 | 井关隆之 |
分类号 | C23C14/35 | 主分类号 | C23C14/35 |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 谢丽娜;关兆辉 |
主权项 | 1.一种磁控溅射装置,由以下部分构成:真空腔;阴极,位于所述真空腔内部,保持靶;阳极,位于所述阴极的上方,保持与所述阴极的靶侧相向的基板;永久磁铁,位于所述阴极的下方,用于产生磁场;和旋转控制装置,以靶的大致中心为轴,使所述永久磁铁旋转,其特征在于:所述永久磁铁由以下部分构成:底部,用于固定磁铁;第一永久磁铁,被固定于所述底部的中央部位;和圆环形状的第二永久磁铁,被固定于所述底部的端部,环绕所述第一永久磁铁,磁极的极性与所述第一永久磁铁相反,并且磁场强度比所述第一永久磁铁弱;此外,所述永久磁铁的上部为斜向切断的形状,所述永久磁铁没有相对所述靶倾斜设置,而被设置在所述旋转控制装置的旋转轴上。 | ||
地址 | 日本神奈川县横滨市 |