| 发明名称 |
Lithography system with vacuum assisted debris removal system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0886184(B1) |
申请公布日期 |
2005.04.06 |
| 申请号 |
EP19980111034 |
申请日期 |
1998.06.16 |
| 申请人 |
ASML HOLDING N.V. |
发明人 |
MCCULLOUGH, ANDREW W.;OLSON, SEAN |
| 分类号 |
G01N21/15;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G01N21/15 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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