发明名称 |
控制碳纳米管生长密度的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种控制碳纳米管生长密度的方法,该方法包括以下步骤:提供一基底;在基底表面形成一保护层;在保护层表面形成一催化剂层;将形成有保护层及催化剂层的基底放入反应炉内,退火处理;通入碳源气体,生长碳纳米管。本发明通过在基底上形成一保护层,防止催化剂在退火还原过程中与基底反应,保证催化剂颗粒分布密度均匀,从而生长出分布密度均匀的碳纳米管。 |
申请公布号 |
CN1603231A |
申请公布日期 |
2005.04.06 |
申请号 |
CN03134986.2 |
申请日期 |
2003.09.30 |
申请人 |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
张庆州 |
分类号 |
C01B31/02;C23C16/26;C23C14/00 |
主分类号 |
C01B31/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.一种控制碳纳米管生长密度的方法,包括下列步骤:提供一基底;在所述基底的表面形成一保护层;在保护层表面形成一催化剂层;退火还原催化剂层;通入碳源气;在催化剂层表面生成碳纳米管。 |
地址 |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |