发明名称 控制碳纳米管生长密度的方法
摘要 本发明涉及一种控制碳纳米管生长密度的方法,该方法包括以下步骤:提供一基底;在基底表面形成一保护层;在保护层表面形成一催化剂层;将形成有保护层及催化剂层的基底放入反应炉内,退火处理;通入碳源气体,生长碳纳米管。本发明通过在基底上形成一保护层,防止催化剂在退火还原过程中与基底反应,保证催化剂颗粒分布密度均匀,从而生长出分布密度均匀的碳纳米管。
申请公布号 CN1603231A 申请公布日期 2005.04.06
申请号 CN03134986.2 申请日期 2003.09.30
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 张庆州
分类号 C01B31/02;C23C16/26;C23C14/00 主分类号 C01B31/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种控制碳纳米管生长密度的方法,包括下列步骤:提供一基底;在所述基底的表面形成一保护层;在保护层表面形成一催化剂层;退火还原催化剂层;通入碳源气;在催化剂层表面生成碳纳米管。
地址 518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号