在平版印刷中用于减少误差的方法

摘要

本发明提供一种一种用于在使用诸如大面积光掩模或刻线的掩模，和诸如晶片步进机或投射对准仪的曝光机的平版印刷，将所述掩模的图案印刷在一个诸如一个显示屏或一个半导体晶片的工件上的过程中预测和校正几何误差的方法，根据本发明的方法包括下列步骤：收集关于至少下列信息中一个信息的信息：关于掩模基底的信息，关于掩模写入器的信息，关于曝光机的信息，和关于将在写入掩模之后发生的处理过程的行为信息。该方法还包括由所述信息预测当图案被印刷到工件上时将在图案中产生的变形，由所述预测来计算一个校正映射以消除所预测的变形，和将所述图案曝光到所述掩模基底上，同时将所述校正映射施加于所述变形。

主权项

1.一种用于在使用掩模和曝光机将所述掩模的图案印刷在一个工件上的平版印刷中预测和校正几何误差的方法，该方法包括下列步骤：-提供一个掩模基底；-提供一个图案数据文件；-提供一个用于将所述图案写入在所述掩模基底上的掩模写入器；-收集关于下列信息中至少一个信息的信息：-关于掩模基底的信息，-关于掩模写入器的信息，和-关于曝光机的信息；-由所述关于掩膜基底、掩膜写入器、或曝光机的所述信息预测当图案被随后印刷到工件上时将在图案中产生的变形，-由所述预测来计算一个校正映射以消除所预测的变形，和-将所述图案曝光到所述掩模基底上，同时将所述校正映射施加于所述变形。