| 发明名称 | 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物及其在光刻中应用的方法。该抗反射涂料溶液包含一种新型聚合物和一种有机溶剂或溶剂的混合物，其中所述新型聚合物包含含有可吸收约180nm到约450nm的染料的单元且不含交联基团。 | ||
| 申请公布号 | CN1196030C | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
| 申请号 | CN00811167.7 | 申请日期 | 2000.07.27 |
| 申请人 | 科莱恩金融(BVI)有限公司 | 发明人 | S·丁;D·N·坎纳;M·A·斯帕克;D·L·杜哈姆;单会;E·宫扎尔兹 |
| 分类号 | G03F7/09;C08F20/36;C09B69/10 | 主分类号 | G03F7/09 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
| 主权项 | 1.一种用于光刻的涂料组合物，包含：a)具有下式结构的聚合物，<img file="C008111670002C1.GIF" wi="535" he="597" />其中，R<sub>1</sub>-R<sub>3</sub>独立地为H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，R<sub>5</sub>-R<sub>8</sub>不含交联基团并独立地为H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基、羟烷基、硝基、卤素、氰基、芳基、烷芳基、烯基、二氰基乙烯基、SO<sub>2</sub>CF<sub>3</sub>、COOZ、SO<sub>3</sub>Z、COZ、OZ、NZ<sub>2</sub>、SZ、SO<sub>2</sub>Z、NHCOZ、SO<sub>2</sub>NZ<sub>2</sub>，其中Z为H或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、羟(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基OCOCH<sub>2</sub>COCH<sub>3</sub>，或R<sub>7</sub>和R<sub>8</sub>结合形成环状基团，X<sub>1</sub>为C＝O、OCO、CONH、O、芳基、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、环己基、吡啶或吡咯烷酮，X<sub>2</sub>为S、S(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、O、O(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、NH、N(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基、烷基、或羟烷基(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)，n独立为0-2，A为吸电子基团，Y为共轭部分，选自N＝N、CW＝CW、CW＝N、或N＝CW，其中W为H、(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷基或(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)烷氧基，x＞0，且y≥0，且B选自5-10元芳族基团、多芳族基团或杂环芳族基团；和b)一种溶剂。 | ||
| 地址 | 英属维尔京群岛托尔托拉 | ||