Method for forming the contact hole of semiconductor device,申请号KR20000086422-传众专利搜索

发明名称	Method for forming the contact hole of semiconductor device
摘要
申请公布号	KR100480233(B1)	申请公布日期	2005.04.06
申请号	KR20000086422	申请日期	2000.12.29
申请人		发明人
分类号	H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
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