| 发明名称 | 用于抛光磁头浮动块的方法 | ||
| 摘要 | 本发明为用于抛光磁头浮动块减小处理致台阶的方法，包括：一杆沿抛光板径向往返运动，并使有抛光面的抛光板旋转，对磁头浮动块的空气轴承面抛光，该杆包括有薄膜磁头件的磁头浮动块。使抛光板以第一速旋转作高度抛光的第一抛光步骤，使抛光板以等于或小于第一速的第二速旋转作精抛光的第二抛光步骤，在第二步中，第二速如此设置，使得沿抛光板旋转方向的平均线速等于或小于0.032米/秒(最好0.008米/秒)。以减小处理致台阶。 | ||
| 申请公布号 | CN1196107C | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
| 申请号 | CN01103077.1 | 申请日期 | 2001.01.22 |
| 申请人 | TDK株式会社;东京磁气印刷株式会社 | 发明人 | 樱田俊道;藤田恭敏;山口正雄;折井一也;斋藤军夫 |
| 分类号 | G11B5/187;G11B5/60;G11B21/21;B24B39/00 | 主分类号 | G11B5/187 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京;林长安 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光磁头浮动块的方法，其中利用具有一抛光表面的抛光板抛光磁头浮动块的多层元件端面，在所述端面上以多层结构形成一薄膜磁头元件，所述方法包括：借助于设置抛光板在第一速度下旋转以抛光磁头浮动块之多层元件端面的第一抛光步骤，在开始第二抛光步骤之前，进行用于除去在第一抛光步骤中产生的杂质的清洁步骤，借助于设置抛光板在等于或小于第一速度的第二速度下旋转以抛光在清洁步骤中清洁的磁头浮动块的多层元件端面的第二抛光步骤，其中，在第二抛光步骤中，第二速度被如此设置，使得沿抛光板的旋转方向上的平均线速度等于或小于0.032米/秒并大于零；和在第二抛光步骤中，磁头浮动块被设置为沿着一几乎和抛光板的旋转方向垂直的方向作往返运动。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||