| 发明名称 | 磁控管中用于控制目标冲蚀和溅射的装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有旋转圆柱状目标(4)和固定磁铁装置(20)的溅射磁控管(10)，所述磁铁装置(20)适于在所述目标(4)的表面形成细长等离子跑道，所述细长跑道在其长边的大部分上具有大致平行的轨道，且在各个末端由端部闭合，等离子跑道的各个末端实质上可被描绘成椭圆形，在垂直于细长跑道纵轴的第一方向的横跨所述椭圆的所述跑道的轨道的间距大于沿平行于第一方向的实质上平行轨道之间的距离，以大大地影响溅射到衬底上的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN1196169C | 申请公布日期 | 2005.04.06 |
| 申请号 | CN99805092.X | 申请日期 | 1999.04.14 |
| 申请人 | 贝克尔特VDS股份有限公司 | 发明人 | W·德博斯彻;H·列文斯 |
| 分类号 | H01J37/34;C23C14/35 | 主分类号 | H01J37/34 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 钱慰民 |
| 主权项 | 1.一种用于溅射到衬底上的溅射磁控管(10)，所述磁控管具有旋转圆柱状目标(4)和固定磁铁装置(20)，所述磁铁装置(20)适于在所述目标(4)的表面与目标和衬底之间的交叉电场共同形成细长等离子跑道，所述跑道在其长边的大部分上具有大致平行的轨道，且在各个末端由端部闭合，等离子跑道的各个末端可被描绘成椭圆形，在垂直于细长跑道纵轴的第一方向的横跨所述椭圆的所述跑道的轨道的间距大于沿平行于第一方向的平行轨道之间的距离，以大大地影响溅射到衬底上的效果。 | ||
| 地址 | 比利时丹泽 | ||