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<p>"DISPOSITIVO PARA A DEPOSIçãO DE PóS A ALTAS TEMPERATURAS E MéTODO DE UTILIZAçãO DE CONTROLE POR RETORNO". Uma deposição é formada sobre um substrato de deposição (52) usando uma pistola de deposição (32) a qual queima uma mistura de um combustível e de um oxidante para formar um fluxo de gás de deposição, mistura um pó dentro do fluxo de gás de deposição para formar um fluxo de mistura de deposição (44), e projeta o fluxo da mistura de deposição (44) a partir desta. A pistola de deposição (32) é provida de um refrigerante circulante. O fluxo de combustível para a pistola de deposição (32), o fluxo do oxidante para a pistola de deposição (32), o fluxo do pó para a pistola de deposição (32) e a capacidade de refrigeração do fluxo de refrigerante são todos medidos. O fluxo do combustível, o fluxo do oxidante, o fluxo do pó e a capacidade de refrigeração do fluxo de refrigeração são todos controlados em resposta à etapa de medição.</p> |
