介电障壁层薄膜

摘要

根据本发明提出一介电障壁层。根据本发明之介电障壁层包含一以脉冲式DC，基底偏压之物理气相沈积，沈积在一基底上之热压缩非结晶质介电层，其中，热压缩非结晶质介电层一障壁层。根据本发明形成一障壁层之方法包含提供一基底并以一脉冲式DC，偏压，宽广标的物物理气相沈积程序，在基底上沈积一高度热压缩，非结晶质，介电材料。而且，这程序可包含在基底上实施一软性金属气息处理。可利用这种障壁层作为电气层，光学层，免除层，或摩擦层。