氟添加碳膜之形成方法

摘要

本发明之课题在于改善氟添加碳膜与基础膜之密着性者。为解决该课题，根据本发明使用氟添加碳膜之形成方法，其系于被处理基板上形成氟添加碳膜者；其特征在于：包含藉由基板处理装置电浆激发稀有气体，藉由电浆激发之前述稀有气体进行前述被处理基板之表面处理之第1步骤，以及于前述被处理基板上形成氟添加碳膜之第2步骤；前述基板处理装置系含有与微波电源电气性连接之微波天线。