发明名称 半导体装置的制造系统及半导体装置的制造方法
摘要 〔课题〕适当地管理制程处理装置之维护间隔,以缩短半导体装置之制造工程期间。〔解决手段〕具备:实行使用半导体基板17之制程处理之处理装置14,及由处理装置14收讯装置资讯,进行处理装置14之自我管理之自我诊断系统11a,及检查制程处理之结果之检查装置19,及依据检查结果,判定是否自我修复处理装置14,在判定结果为有效判定时,维持自我诊断系统11a之参数,在判定结果为无效判定时,变更自我诊断系统11a之参数之电脑11。
申请公布号 TW200512794 申请公布日期 2005.04.01
申请号 TW093126536 申请日期 2004.09.02
申请人 东芝股份有限公司 发明人 牛久幸广;柿沼英则;秋山龙雄;首藤俊次;安部正泰;小松茂
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本