| 主权项 |
1.一种移动机构,包含:一参考结构,具有一引导表面;一可移动构件,可沿着该引导表面移动;及多个致动器,设置在该可移动构件的相对侧上,其中该多个致动器的每一者具有一可移动元件及一定子,用以沿着该引导表面二维地驱动该可移动构件;其中该多个致动器的可移动元件的每一者系可与该可移动构件一起移动,及其中该多个致动器的定子的每一者可藉着回应该可移动构件的驱动所产生的反作用力而作二维的移动。2.如申请专利范围第1项所述的移动机构,其中该定子可沿着该引导表面移动。3.如申请专利范围第1项所述的移动机构,其中每一该致动器包含具有该可移动元件及该定子的一线性马达。4.如申请专利范围第3项所述的移动机构,其中该线性马达的该定子是由一线圈提供,并且该线性马达的该可移动元件是由一永久磁铁提供。5.如申请专利范围第3项所述的移动机构,其中该线性马达的该定子是由一永久磁铁提供,并且该线性马达的该可移动元件是由一线圈提供。6.如申请专利范围第1项所述的移动机构,另外包含一位置测量装置及一驱动机构,用来定位作为反作用力记量器的该定子。7.一种机台,包含:一参考致动器,具有一引导表面;一可移动构件,可沿着该引导表面移动;一驱动机构,用来定位该可移动构件;一位置测量装置,用来测量该可移动构件;及多个致动器,设置在该可移动构件的相对侧上,其中该多个致动器的每一者具有一可移动元件及一定子,用以沿着该引导表面二维地驱动该可移动构件,其中该多个致动器的可移动元件的每一者系可与该可移动构件一起移动,及其中该多个致动器的定子的每一者可藉着回应该可移动构件的驱动所产生的反作用力而作二维的移动。8.如申请专利范围第7项所述的机台,另外包含用来控制定子的位置的一致动器。9.如申请专利范围第7项所述的机台,其中该机台可于六个轴线方向移动,并且上面安装有一及Z倾斜机台。10.一种曝光装置,包含:曝光机构,用来经由一投影光学系统而将一原像的图型投影在一基板上;及如申请专利范围第7项所述的机台,用来移动原像及基板的至少一者。11.如申请专利范围第10项所述的曝光装置,其中该曝光是藉着扫描曝光来实施,其中该原像及该基板相对于该投影光学系统被扫描式地移动,因而使该原像的图型的预定曝光区域被扫描式地印刷在该基板上,并且该原像及/或该基板由该机台移动以进行扫描。12.如申请专利范围第10项所述的曝光装置,其中该机台连接于一筒形基座,而该投影光学系统安装在该筒形基座上。13.如申请专利范围第10项所述的曝光装置,其中在该机台中,线性马达的定子与可移动元件之间的关系是根据一打开结构,并且一屏蔽壁设置在该定子的内部,该屏蔽壁在围封具有该可移动元件的该可移动构件之下从一照明光学系统及一投影光学系统的至少一者延伸,内部空间是藉着使用非活性气体来清洗。14.如申请专利范围第13项所述的曝光装置,其中使用成为位置测量机构的一干涉仪设置在屏蔽壁内部的一清洗区域中。15.如申请专利范围第14项所述的曝光装置,其中具有如反作用力计量器的功能的该定子是由用来于一笔直方向产生一推力的一致动器支撑,并且于该笔直方向的一驱动反作用力是由一反作用力接收结构接收,而该反作用力接收结构是与机台基座分开地由底板支撑。16.一种装置制造方法,包含以下步骤:在一半导体制造工厂中提供用来实施各种不同制程的一群生产机器,包括如申请专利范围第10项所述的曝光装置;及经由使用该生产机器群的多个制程来制造一半导体装置。17.如申请专利范围第16项所述的装置制造方法,另外包含(i)经由一局部区域网路使该群生产机器互相连接,及(ii)在该局部区域网路与该半导体制造工厂外部的一外部网路之间执行相关于与该生产机器群的至少一生产机器有关的资讯的资料通讯。18.如申请专利范围第16项所述的装置制造方法,其中由该曝光装置的卖主或使用者提供的一资料库可经由该外部网路出入,使得与该生产机器有关的维修资讯可经由资料通讯而获得,并且生产控制可根据经由该外部网路以及在该半导体工厂与一分开的半导体工厂之间进行的资料通讯来实施。19.一种半导体制造工厂,包含:一群生产机器,用来实施各种不同制程,包括如申请专利范围第10项所述的曝光装置;一局部区域网路,用来使该群生产机器的生产机器互相连接;及一闸门通路,使得可从该局部区域网路出入至在该工厂外部的一外部网路;其中与该群生产机器中的至少一生产机器有关的资讯可藉着使用该局部区域网路以及该闸门通路而进行资料通讯。20.一种对曝光装置执行维修的方法,该曝光装置系如申请专利范围第10项所述的曝光装置,该曝光装置系设置在一半导体制造工厂中,该方法包含以下步骤:由该曝光装置的卖主或使用者提供连接于在该半导体制造工厂外部的一外部网路的一维修资料库;容许从该半导体制造工厂经由该外部网路而出入该维修资料库;及经由该外部网路将储存在该维修资料库中的维修资讯传送至该半导体制造工厂。21.如申请专利范围第10项所述的曝光装置,另外包含一显示器,一网路界面,以及用来执行一网路软体的一电脑,其中与该曝光装置有关的维修资讯是经由电脑网路来进行资料通讯。22.如申请专利范围第21项所述的曝光装置,其中该网路软体在该显示器上提供一使用者界面,用来出入由该曝光装置的卖主或使用者制备且连接于在放置有该曝光装置的工厂外部的一外部网路的一维修资料库,因而可经由该外部网路从该资料库获得资讯。23.一种X-Y机台,包含:一参考结构,具有一引导表面;一第一可移动部份,可沿着该引导表面移动于X轴方向;一第一致动器,包括设在该第一可移动部份的相对端部的第一可移动元件,该第一致动器另外包括可移动的第一定子;一第二可移动部份,可沿着该引导表面移动于Y轴方向;一第二致动器,包括设在该第二可移动部份的相对端部的第一可移动元件,该第二致动器另外包括可移动的第二定子;一基台,设在该第一与第二可移动部份间所界定的交叉处;其中该第一定子系相互分开,且该第二定子系相互分开,以及其中每一定子可藉着由于驱动一相关可移动部份所产生的反作用力而移动于二维方向。24.如申请专利范围第23项所述的X-Y机台,其中该第一定子系沿着X轴方向设置,而该第二定子系沿着Y轴方向设置。25.如申请专利范围第24项所述的X-Y机台,其中该定子可沿着该引导表面移动。26.如申请专利范围第24项所述的X-Y机台,其中该第一与第二致动器的至少一者包含一线性马达,其具有一可移动元件及一定子。27.如申请专利范围第26项所述的X-Y机台,其中该线性马达的定子系由一线圈提供,而该线性马达的可移动元件系由一永久磁铁提供。28.如申请专利范围第26项所述的X-Y机台,其中该线性马达的定子系由一永久磁铁提供,而该线性马达的可移动元件系由一线圈提供。29.一种移动机构,包含:一机台,可作二维的移动;一致动器,具有一可移动元件及一定子,该可移动元件可与该机台一起作二维的移动,且,该定子可藉着回应该机台的驱动所产生的反作用力而作二维的移动,其中该致动器系适于用来相对于该定子而驱动该可移动元件于第一与第二方向。30.如申请专利范围第29项所述的移动机构,其中该致动器包括永久磁铁构件及线圈构件,用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一与第二方向,该永久磁铁构件及该线圈构件的一者设在该可移动元件上,而另一者设在该定子上。31.如申请专利范围第30项所述的移动机构,其中该线圈构件包括一第一线圈及一第二线圈,该第一线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一方向,而该第二线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第二方向。32.如申请专利范围第31项所述的移动机构,其中该永久磁铁构件包括一第一永久磁铁及一第二永久磁铁,该第一永久磁铁可与该第一线圈配合,而该第二永久磁铁可与该第二线圈配合。33.一种移动机构,包含:一机台,可作二维的移动;多个致动器,具有可移动元件及定子,该可移动元件可与该机台一起作二维的移动,且,该定子可藉着回应该机台的驱动所产生的反作用力而作二维的移动,其中该多个致动器设在该机台的相对侧,且,该多个致动器的每一者系适于用来相对于该定子而驱动该可移动元件于第一与第二方向。34.如申请专利范围第33项所述的移动机构,其中该多个致动器的每一者包括永久磁铁构件及线圈构件,用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一与第二方向,该永久磁铁构件及该线圈构件的一者设在该可移动元件上,而另一者设在该定子上。35.如申请专利范围第34项所述的移动机构,其中该线圈构件包括一第一线圈及一第二线圈,该第一线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一方向,而该第二线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第二方向。36.如申请专利范围第35项所述的移动机构,其中该永久磁铁构件包括一第一永久磁铁及一第二永久磁铁,该第一永久磁铁可与该第一线圈配合,而该第二永久磁铁可与该第二线圈配合。37.一种曝光装置,用以使具有原像的基板曝光,该曝光装置包含:一机台,用来二维地移动该原像及该基板的一者;及一致动器,具有一可移动元件及一定子,该可移动元件可与该机台一起作二维的移动,且,该定子可藉着回应该机台的驱动所产生的反作用力而作二维的移动,其中该致动器系适于用来相对于该定子而驱动该可移动元件于第一与第二方向。38.如申请专利范围第37项所述的曝光装置,其中该致动器包括永久磁铁构件及线圈构件,用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一与第二方向,该永久磁铁构件及该线圈构件的一者设在该可移动元件上,而另一者设在该定子上。39.如申请专利范围第38项所述的曝光装置,其中该线圈构件包括一第一线圈及一第二线圈,该第一线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第一方向,而该第二线圈用来相对于该定子而驱动该可移动元件于该第二方向。40.如申请专利范围第39项所述的曝光装置,其中该永久磁铁构件包括一第一永久磁铁及一第二永久磁铁,该第一永久磁铁可与该第一线圈配合,而该第二永久磁铁可与该第二线圈配合。41.如申请专利范围第40项所述的曝光装置,其中该机台系移动于该第一方向用于具有该原像的该基板的扫瞄曝光,且,其中该曝光装置另外包含一位置测量装置,用来测量该定子相对于该第一方向的位置。42.如申请专利范围第39项所述的曝光装置,另外包含一定子致动器,用来驱动该定子于该第一方向。43.如申请专利范围第39项所述的曝光装置,其中该曝光装置包含多个致动器,其设置在该机台的相对侧上,且,其中该多个致动器的每一者系适于用来相对于该定子而驱动该可移动元件于第一与第二方向。图式简单说明:图1A及1B为根据本发明的实施例的移动系统的示意图。图2为根据本发明的实施例的机台的示意图。图3为根据本发明的另一实施例的机台的示意图。图4A及4B为根据本发明的机台结合于曝光装置内的实施例的示意图。图5为根据本发明的机台结合于曝光装置内的实施例的示意图。图6A及6B显示定子与移动元件之间的关系。图7A及7B为显示根据本发明的实施例的曝光装置中靠近光罩机台的部份的示意图。图8为于某一方面观看的半导体装置制造系统的示意图。图9为于另一方面观看的半导体装置制造系统的示意图。图10为用来说明使用者界面的例子的示意图。图11为用来说明装置制造过程的流程图。图12为用来说明图11的流程图的程序中的晶圆处理的细节的流程图。 |
