发明名称 基板材的药液处理装置
摘要 [课题]本发明提供一种基板材的药液处理装置,第1,它消除基板材之弯曲、住、卷缠、掉落、以及其他搬送上之问题,第2,因此基板材之药液处理均匀,第3,而且可以简单容易实现,第4,可以自由设定喷嘴之配设位置。[解决方法]该药液处理装置6具有将基板材搬送于水平姿势之输送带2,由上下方向L对基板材A喷射药液C之喷嘴3,以及由仅离开输送面M之上下方些许处配设之垫板7。而垫板7系介设于输送带2之直辊(straight roller)4之间或车轮间之前后间隔F,同时配设于此直辊4或车轮外周顶面10凹陷至少基板材A之厚度部分左右于上下方之高度位准以保持与引导基板材A。
申请公布号 TWI230569 申请公布日期 2005.04.01
申请号 TW092120934 申请日期 2003.07.31
申请人 东京化工机股份有限公司 发明人 新山喜三郎;原力;菅原清司;阿部良治
分类号 H05K1/02 主分类号 H05K1/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种基板材的药液处理装置,系使用于基板的制造工程中,用于对基板材喷射药液以进行药液处理,其特征为具有:用于搬送该基板材之输送带,用于对该基板材喷射药液之喷嘴,以及为保持基板材,离开该输送带之搬送面配置之垫板。2.如申请专利范围第1项之基板材的药液处理装置,其中该输送带以水平姿势搬送该基板材,该喷嘴位于被搬送基板材之对面而由上下方向喷射该药液,该垫板系配设于仅离开该输送带之搬送面些许之上下方。3.如申请专利范围第2项之基板材的药液处理装置,其中该输送带系利用轴向左右之宽度方向,同时在前后之搬送方向多数排列之搬送用直辊或车轮所构成,该直辊或车轮系配设于该搬送面之上下方,而由上下方夹持该基板材而利用接触旋转法搬送,该垫板系配设于前后连接之直辊之间或车轮之间,同时配设于比该直辊或车轮之外周顶面至少在上下方凹陷该基板材之厚度左右之高度位准处。4.如申请专利范围第3项之基板材的药液处理装置,其中该喷嘴至少配设于被搬送基板材之上侧,并透过配管连接到泵或药液槽,该垫板至少介设于该输送带之下侧之直辊之间或车轮之间之前后间隔处,同时其顶面系配设于比下侧之直辊或车轮之外周顶面稍低之位置,至少由下方保持与引导该基板材。5.如申请专利范围第4项之基板材的药液处理装置,其中该垫板沿着前后之搬送方向形成许多用于防止吸附该基板材之槽或孔等凹凸。6.如申请专利范围第4项之基板材的药液处理装置,其中该垫板滑接于该输送带之前后之直辊或车轮,同时被定位与保持于该直辊或车轮之轴上。7.如申请专利范围第4项之基板材的药液处理装置,其中该垫板以多个直辊或车轮为对象,沿着该输送带之前后之搬送方向配设,多个连透过桥部在搬送方向连结成一体。8.如申请专利范围第5、6或7项之基板材的药液处理装置,其中该药液处理装置系使用于模组基板,玻璃基板,以及其他电路用之该基板之制造工程,尤其是其显像工程、蚀刻工程、或剥膜工程;该基板材极薄而富于柔软性,该喷嘴系用于对该基板材喷射显像液、蚀刻液、或剥离液等之药液。图式简单说明:第1(1)、(2)图为针对本发明之基板材之药液处理装置,供说明发明之实施形态并表示适用于直辊式之输送带之例其中第1(1)图为其一例之侧面说明图,第1(2)图为另一例之侧面说明图。第2(1)、(2)图为供说明本发明之实施形态,表示适用于直辊式之输送带之例,其中第2(1)图为重要部分之平面说明图,第2(2)图为第2(1)图之部分扩大图。第3(1)、(2)图为供说明本发明之实施形态,表示适用于车轮式输送带之例,其中第3(1)图为其一例之侧面说明图,第3(2)图为同例之平面说明图。第4(1)、(2)图为供说明本发明之实施形态,表示适用于车轮式输送带之例,其中第4(1)图为其他例之重要部分之侧面说明图,第4(2)图为同例之重要部份之平面说明图。第5(1)、(2)图为供说明此种先前例之基板材之药液处理装置,其中第5(1)图为使用直轭式输送带之例的侧面说明图,第5(2)图为使用车轮式输送带之例的侧面说明图。第6图为将基板基板材模式化之平面说明图。
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