| 主权项 |
1.一种用于基体涂覆设备之止动结构,具有一第一空间(6)及一第二空间(30),该二空间(6,30)系藉一气体分隔壁(31)而彼此隔开,其特征在于透过此气体分隔壁(31)能延伸至少一通道(46,51),其内部轮廓系调整为基体(48,49)之外部轮廓。2.如申请专利范围第1项之止动结构,其中当操作期间,至少二基体系置于一通道(46,51)之中。3.如申请专利范围第1项之止动结构,其中一通道(46,51)及一基体(48,49)之间的距离在基体最大直径处为1至15毫米。4.如申请专利范围第1项之止动结构,其中一通道(46,51)之长度(a)大于二基体(48,49)间之最大距离。5.如申请专利范围第1项之止动结构,其中通道(46,51)之中提供一屏障气体。6.如申请专利范围第1项之止动结构,其中通道(46,51)在其一端可覆盖一箔幕。7.如申请专利范围第1项之止动结构,其中通道(46,51)至少在其一端可用口盖加以封闭。8.如申请专利范围第1项之止动结构,其中提供两个以上的空间以及一个以上的气体分隔壁。图式简单说明:第1图系用于涂覆具有金属之合成材料瓶之设备;第2图系用于涂覆具有金属,金属氧化物或金属氮化物或金属氮氧化物之合成材料瓶之设备;第3图系具有二个贯穿通道之分壁结构;第4图系根据第3图之结构的透视模型图。 |
