| 主权项 |
1.一种膜形成方法,其特征系包含于下述式(I)所示第1化合物与下述式(II)所示第2化合物上,以施加光及/或热,使前述第1化合物与前述第2化合物产生环化加成反应而生成环化物之步骤与,将前述环化物与,含有可溶解该环化物之溶剂的液体层设置于基材上之步骤与,对该液体层施加光及/或热,以生成含前述第1化合物与前述第2化合物的固体之步骤;(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。2.如申请专利范围第1项之膜形成方法,其中前述环化物为下述式(III)所示:(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。3.一种膜形成方法,其特征系包含于下述式(IV)所示第4化合物上,以施加光及/或热,使前述第4化合物中所具有之2种类芳香族部位产生分子内环化加成反应而生成环化物之步骤与,将前述环化物与,含有可溶解该环化物之溶剂的液体层设置于基材上之步骤与,对该液体层施加光及/或热,以生成含前述第4化合物的固体之步骤;(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。4.如申请专利范围第3项之膜形成方法,其中前述环化物为下述式(V)所示:(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。5.一种原料液,其系含有下述式(I)所示第1化合物、下述式(II)所示第2化合物,与溶剂;(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数:且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。6.一种原料液,其系含有下述式(IV)所示第4化合物,与溶剂;(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。7.一种溶液,其系含有下述式(I)所示第1化合物与下述式(II)所示第2化合物产生环化加成反应所得之环化物,与可溶解该环化物之溶剂;(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。8.如申请专利范围第7项之溶液,其中前述环化物为下述式(III)所示:(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。9.一种溶液,其系含有下述式(IV)所示第4化合物产生分子内环化加成反应而生成之环化物,与可溶解该环化物之溶剂;(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。10.如申请专利范围第9项之溶液,其中前述环化物为下述式(V)所示:(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。11.一种环化物,其系由下述式(I)所示第1化合物与下述式(II)所示第2化合物,经由光及/或热之作用产生环化加成反应所得之环化物;(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。12.一种环化物,其系为下述式(III)所示:(式中,R1、R2、R3、与R4,可为相同或不同之由原子数1以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。13.一种环化物,其系由下述式(IV)所示第4化合物,经由光及/或热之作用产生分子内环化加成反应所得之环化物;(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。14.一种环化物,其系为下述式(V)所示:(式中,X与Y,可为相同或不同之由原子数2以上18以下所构成,其具有1个以上由下述A群所选出之原子或部位,且苯核之氢原子亦可被取代;A群为由氢原子、卤素原子、链烷部位、链烯部位、醚部位、缩醛部位、羰部位、胺部位、醯胺部位、酯部位、碳酸酯部位、醯亚胺部位、与酸酐部位所组成;n1、n2、n3、n4各自为0以上之整数,且n1+n2与n3+n4中至少1个为2以上)。15.一种有机半导体膜之形成方法,其特征为,依申请专利范围第1项至申请专利范围第4项中任一项之膜形成方法,使用具有有机半导体特性之共轭环系化合物形成有机半导体膜。16.如申请专利范围第15项之半导体膜之形成方法,其为用于半导体装置之制造方法。 |
