基板之处理装置

摘要

本发明之目的在于提供一种基板之处理装置，其用以减低基板在CVD装置等之反应室内升降时之基板的搬送障碍，并依障碍之减低而提升LCD之阵列基板等的生产性。其解决手段在于本发明之处理装置10，包含有从下方支撑基板42并使基板42升降的销12；由销12通过之筒状体所形成，于内周面15形成有凹部19的销导件14；将气体送至销导件14的气体导入孔16；以及排出气体的气体排出孔18。藉由对销导件14导入气体，可在销12与销导件14之间形成气体之层，俾使销12平顺地升降。