| 主权项 |
1.一种防污性材料,系具有基材及以硷性矽酸盐作 为主成分之无机被膜,该无机被膜固着在该防污性 材料之最表层上; 该无机被膜中,自其表层部以X光电子分光法所测 定之由锂、钠及钾所构成之群中所选出之硷金属 含量系为10重量%以上,并且所包含之非交联氧的含 量可以达到自该无机被膜之硷金属溶出率为0.001 至80%;且该硷金属及非交联氧之含量系为使附着于 该无机被膜之表面的排气污秽仅需藉着流水洗净 即可使其表面之起始扩散反射率恢复至75%的有效 量,而且 该无机被膜的表面之中心线平均粗度(Ra)为Ra<500nm, 且厚度为5m以下。 2.如申请专利范围第1项之防污性材料,其中该扩散 反射率之恢复率为80%以上。 3.如申请专利范围第2项之防污性材料,其中该扩散 反射率之恢复率为90%以上。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材料 ,其中该无机被膜中之硷金属浓度系比该无机被膜 坚固附着之下一层中之硷金属浓度为高。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材料 ,其中该无机被膜在水中之油酸之接触角为100以 上。 6.如申请专利范围第5项之防污性材料,其中该接触 角大于120。 7.如申请专利范围第6项之防污性材料,其中该接触 角大于140。 8.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材料 ,其中在50℃之温水中浸渍6小时之后,在水中之无 机被膜之被膜面之油酸之接触角大于120。 9.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材料 ,其中该无机被膜对油之浸渍热比对水之浸渍热小 。 10.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜之厚度为0.01m至5m。 11.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该中心线平均粗度(Ra)为Ra<100nm。 12.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜表面之带电半衰期为10秒以下 。 13.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜浸渍于pH7之水中时之电位为 负値。 14.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜之表面之pH超过7。 15.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该非晶质金属氧化物系由氧化矽、氧化铝 、氧化锆、氧化硼以及氧化磷所构成之群所选出 之一种以上。 16.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜中添加抗菌成分。 17.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该基材系在底子上形成含有粒子状物质之 釉药层及/或透明薄膜层者。 18.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该基材表面含有粒子状物质。 19.如申请专利范围第17项之防污性材料,其中该粒 子状物质系由矽、铝、铁、钛、镁、钙、锆、锌 、钴、锰、铬、铜、银、铅及镍所构成之群所选 出之一种以上之元素。 20.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该无机被膜另含有具光触媒功能之金属氧 化物,且其一部分露出。 21.如申请专利范围第1至3项中任一项之防污性材 料,其中该基材系由包含砖、卫生陶器、食器、陶 瓷器之陶瓷、玻璃、天然石、水泥、混凝土、金 属、纤维、塑胶所构成之群选出之一种以上,或该 等之层叠体所构成者。 22.一种涂覆组成物,系用于制造申请专利范围第1 项之防污性材料及在基材表面形成防污性无机被 膜者,该涂覆组成物系含有溶媒与溶质,该溶质含 有由硷性矽酸盐、硷性铝酸盐、硷性锆酸盐、硷 性硼酸盐、硷性磷酸盐以及硷性膦酸盐所构成之 群中选出之一种以上为主成分。 23.如申请专利范围第22项之涂覆组成物,其中该溶 质之10重量%以上系由硷金属所构成。 24.如申请专利范围第22或23项之涂覆组成物,其中 该溶质实质上由硷性矽酸盐所构成。 25.如申请专利范围第22项之涂覆组成物,其中该溶 质含有由铝、钛、矽、锆、锌、铈、锡、锑、锶 、铁、铬、磷、硼、钴、锰、铜、银、铂、金、 钒、钽及铋所构成之金属以及该等金属化合物所 选出之至少一种以上做为第2成分。 26.如申请专利范围第22项之涂覆组成物,其中该涂 覆组成物中之硷性矽酸盐之浓度在固体成分浓度 上为0.001至35重量%。 27.如申请专利范围第25至26项之涂覆组成物,其中 对该硷性矽酸盐1重量分含有0.001至100重量分之第 二成分。 28.如申请专利范围第27项之涂覆组成物,其中该硷 性矽酸盐1重量分含有0.1至5重量分之第二成分。 29.一种防污性材料之制造方法,系用以制造如申请 专利范围第1项之防污性材料的方法,其包含: 在基材表面涂覆如申请专利范围第22项之涂覆组 成物;以及 加热处理该基材,并将该涂覆组成物之涂覆层固定 于该基材表面做为防污性无机被膜。 30.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 是以快速加热进行。 31.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 是以100℃至800℃进行对该基材表面温度之加热。 32.如申请专利范围第31项之方法,其中该加热处理 是以150℃至600℃进行对该基材表面温度之加热。 33.如申请专利范围第32项之方法,其中该加热处理 是以150℃至500℃进行对该基材表面温度之加热。 34.如申请专利范围第33项之方法,其中该加热处理 是以200℃至500℃进行对该基材表面温度之加热。 35.如申请专利范围第31项之方法,其中该加热处理 中之基材所放置之气氛温度是以100℃至1000℃加热 。 36.如申请专利范围第35项之方法,其中该气氛温度 是以200℃至1000℃加热。 37.如申请专利范围第30项之方法,其中该加热处理 时间为2至60秒。 38.如申请专利范围第37项之方法,其中该加热处理 时间为5至60秒。 39.如申请专利范围第29项之方法,其中该气氛温度 为150℃至700℃,而该加热处理时间为1至6分钟。 40.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 中,加热温度实质上保持恒定。 41.如申请专利范围第29项之方法,其中涂覆该涂覆 组成物之前,预热该基材。 42.如申请专利范围第41项之方法,其中该预热系将 该基材表面加热至20℃至400℃来进行。 43.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 系仅对该基材之表面集中赋予热量来进行。 44.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 系以单位面积之发热量为120MJ/m2.h以上之发热装置 进行。 45.如申请专利范围第29项之方法,其中涂覆有该涂 覆组成物之基材是在加热处理之前被乾燥。 46.如申请专利范围第29项之方法,其中交付该加热 处理之基材,接着被快速冷却。 47.如申请专利范围第29项之方法,其中该涂覆组成 系使用组成相同或不同者,并将该等以层叠状或多 层状涂覆于该基材表面。 48.如申请专利范围第29项之方法,其中该基材系由 金属,无机材料,有机材料或其复合材料所构成。 49.如申请专利范围第29项之方法,其中所制造之防 污性材料为瓷砖、卫生陶器、食器、矽酸钙板、 建材、陶瓷基材、半导体材料、绝缘体、玻璃或 镜子。 50.如申请专利范围第49项之方法,其中该瓷砖为内 装瓷砖、外装瓷砖、铺装瓷砖或堕道内装瓷砖。 51.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 后之无机被膜对水之浸渍热比该无机被膜形成前 之基材对水之浸渍热大。 52.如申请专利范围第29项之方法,其中该加热处理 后之无机被膜对水之浸渍热比该无机被膜形成前 之基材对水之浸渍热高出lerg/cm2以上。 图式简单说明: 第1图为本发明之一实施形态有关之无机被膜之概 略图。 第2图为本发明之防污性材料之制造方法之说明图 。(a)为加热处理前之状态,(b)为加热处理后之状态 。涂覆于基材1之涂覆组成物之层2a经由加热而成 为对基材1赋予多功能之薄膜2b。 第3图为本发明之防污性材料之制造方法之说明图 。(a)为加热处理前之状态,(b)为加热处理后之状态 。涂覆于基材1之涂覆组成物之层2a及层4a具有非 交联氧而成为对亲水性之发挥有益之层4b。 第4图为本发明之防污性材料之制造装置之说明图 。图示之装置之基本设备首先包括制造陶器之成 形装置5,施釉装置6,以及烧装置7所构成之装置, 以及涂覆组成物之涂覆装置8,快速加热装置9以及 冷却装置10所构成之本发明之装置连接安装,又在 各装置内各装置之间具备可以连续搬运基材之搬 运装置16。 第5图系以标准剖面表示第4图中之快速加热装置9 之构造图。快速加热装置9系由发热体21,覆盖发热 体且形成加热空间之耐热材料22,将要加热之基材 23保持于上述加热空间内且将基材搬运至图中之 箭头A方向之搬运装置16,以及将基材搬进搬出上述 加热空间之搬入口24与搬出口25。 第6图表示装设有涂覆涂覆组成物之前,预热基材 之预热装置11以及用于乾燥已涂覆上述涂覆组成 物之基材之乾燥装置12之装置之图。 第7图为本发明之实施形态之无机被膜在水中进行 生菜油之接触角之测定之概略图。 第8图为表示实施例C-1之结果的图表,系表示以150 ℃、350℃或550℃热处理之适用矽酸钾之瓷砖之钾 离子洗提试验者。 第9图为表示实施例C-2及C-3以及比较例C-1之结果的 图表。系表示实施例C-2及C-3以及比较例C-1之结果 的图表。系表示以150℃、350℃、450℃、550℃或800 ℃热处理之适用矽酸钾之瓷砖在水中进行生菜油 之接触角测定与矽酸钾之热重量分析之热重量分 析之结果图。 |
